Gebraucht GASONICS / NOVELLUS L 3510 #9374853 zu verkaufen

GASONICS/NOVELLUS L 3510 ist eine fortschrittliche Ätz-/Ascheausrüstung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es bietet hohen Durchsatz, überlegene Abscheidungsgleichmäßigkeit und überlegene Mustertreue im Vergleich zu anderen Ätz-/Aschesystemen. Mit seinem hohen Durchsatz kann das System den Produktionsdurchsatz unterstützen und gleichzeitig Flexibilität und Skalierbarkeit von bis zu 6-Zoll-Wafern bieten. Der Prozess beginnt im Precursor-Modul, das zur Vorbehandlung von Geräten vor dem Ätz- oder Ascheschritt ausgelegt ist. Das Modul beherbergt eine große Einzeldosisquelle verschiedener chemischer Vorstufen wie Chlor, Stickstoff und Fluor. Diese Kombination von Vorstufen führt zu dichteren Schichtablagerungen, verbesserter Strukturierung und verkürzter Verarbeitungszeit. Im Etch/Asche-Modul wird der Wafer in eine Prozesskammer eingelegt, die die Ätz-/Aschequelle enthält und einer Chemikalienkombination ausgesetzt ist. Eine Reihe von zurück zum Rücken Pulsduschenschritten sichert sogar Absetzung und das Ätzen, während der reaktive Hochleistungsionsätzenprozess das Gerätmuster ätzt. Das Modul Plasmaquelle verwendet einen Hochfrequenzgenerator, um ein Plasma zu erzeugen, das Energie an das gewünschte Material liefert, um Ätzen und Aschen zu ermöglichen. Die Plasmaquelle unterstützt auch eine verbesserte dielektrische Abdeckung, höhere Seitenverhältnisse und schnellere Verarbeitungszeiten im Vergleich zu Nassätz-/Aschesystemen. Darüber hinaus verfügt GASONICS L 3510 über ein multifunktionales Logbuch für Echtzeitüberwachung, Trendanzeige und Protokolldateiabruf. Dies ermöglicht es Benutzern, alle Prozessparameter zu überwachen und es dem Gerät zu ermöglichen, vor jedem Durchlauf einen vollständigen Sweep der Prozesskammer durchzuführen. Dies gewährleistet Konsistenz, Genauigkeit und Zuverlässigkeit. NOVELLUS L 3510 ist eine vielseitige und leistungsstarke Ätz-/Aschemaschine, die für eine zeit- und kostengünstige Verarbeitung von Wafern bis zu 6 Zoll ausgelegt ist. Seine Kombination aus hohem Durchsatz und überlegener Mustertreue macht es zu einer ausgezeichneten Wahl für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.