Gebraucht GASONICS PEP Iridia #9293817 zu verkaufen

GASONICS PEP Iridia ist ein hochpräziser Ätzer/Ascher zur Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente wie Hochspannungstransistoren, Photoelektronik und optoelektronische Bauelemente. Es ist auf einer vollautomatischen 400-mm-Plattform aufgebaut und verfügt über lasergetriebene Scanoptiken und ein CVD-Verfahren (Dual-Source, Multi-Gas, Chemical Vapor Deposition). Der Ätzer/Ascher verwendet ein neuartiges, nicht oxidierendes Plasmaverfahren, das keine zusätzlichen Ätzschritte erfordert und eine hohe Filmqualität und ausgezeichnete Gleichmäßigkeit auf jedem Substrattyp bietet. PEP Iridia ist mit mehreren Werkzeugen zur Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit ausgestattet, einschließlich einer fortschrittlichen in situ optischen Monitorausrüstung. Sein adaptives Steuerungssystem behält automatisch Abscheidungsparameter wie Temperatur, Druck, Gasdurchsätze und Ätzraten bei, um schwankungsarme und wiederholbare Herstellungsprozesse für Geräte zu gewährleisten. Darüber hinaus unterstützt die integrierte Prozessüberwachungseinheit auch bei der Erzielung präziser Wafer-Level-Prozesse mit konsistenter Across-Wafer-Gleichmäßigkeit. GASONICS PEP Iridia verfügt über eine ausgeklügelte Robotermaschine, die Waferbeladung, Abrufen, Sortieren und andere Funktionen ausführt. Es bietet herausragende Leistung in Bezug auf durchplattierte Dicke, Gleichmäßigkeit, Präzision und Linienintegrität. Dies macht es für die Herstellung von fortgeschrittenen Halbleitern, Mehrschichtschaltungen und hochauflösenden Photomasken geeignet. PEP Iridia verfügt zudem über ein integriertes Gasförderpanel, das einen optimalen Gasfluss im Ätzprozess ermöglicht. Der integrierte Regler passt Gasgemische an, um die Prozesssteuerung zu gewährleisten und das Wärmemanagement zu optimieren. Darüber hinaus ermöglicht das Tool mit dem integrierten dynamischen Prozessmonitor eine genaue Prozessüberwachung und liefert Echtzeit-Prozessdaten-Feedback. GASONICS PEP Iridia ist ein Hochleistungs-Ätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um gleichmäßige, reproduzierbare und qualitativ hochwertige Ergebnisse auch auf den anspruchsvollsten Substraten zu erzielen. Das intelligente Design und die benutzerfreundliche Schnittstelle machen es für die Geräteentwicklung und Prozessoptimierung in einer Vielzahl von Halbleiteranwendungen geeignet.