Gebraucht HITACHI 300LE #293667223 zu verkaufen

HITACHI 300LE etcher ist eine hochfähige Ätz- und Aschemaschine für die Hochpräzision und Hochgeschwindigkeitsablation und -ätzung von mikroelektronischen Geräten. 300LE ist ein robuster und zuverlässiger Vakuumätzer/Ascher, der hauptsächlich Ätzchemie von Kohlenstoff, Nitrid und Oxid verwendet. HITACHI 300LE ist mit einem vollwertigen Schrittmotorsystem ausgestattet, das eine präzise Steuerung und Positionierung in X-, Y- und Z-Richtung gewährleistet. Es ist in der Lage, Substratätzgeschwindigkeit bis zu 1150mm/s für schnelles Ätzen von Mikroschaltungen und Supraleitern zu liefern. Die Ätz-/Aschereinheit bietet präzise Positionskontrolle und erweiterte Temperatur- und Zeitsteuerungsfunktionen. Es bietet auch einen SCA-Parameter zur Verwaltung von Substrattemperaturen sowie einen WCA-Parameter zur Zeitsteuerung. Das hochauflösende Display verfügt über ein LCD-Display mit hoher Helligkeit und eine grafische Benutzeroberfläche, mit der Benutzer die gesamte Maschine einfach bedienen und überwachen können. 300LE verfügt über Inline-Prozesssteuerungen einschließlich zyklischer Wellenformen für die Lichtbogensteuerung, Gasfluss-Proportionalregler für die Ätzchemieversorgung, Hydro-Wäscher mit Ablaufausgang für die Lösungsmittelverdampfung, Kammerinertgasrückführwerkzeug und Y-Achse, X-Achse und Z-Bewegungssteuerung. Darüber hinaus verfügt der HITACHI 300LE Ätzer über ein hohes Maß an Sicherheit und ergonomischem Design, mit Sicherheitsabdeckungen, einem Vakuumsicherheitsmelder und einem Not-Aus-Schalter. Es verfügt über eine breite Palette von Prozesssteuerungsfunktionen, so dass seine Benutzer ihre Ätz- und Ascheprozesse für mehrere Substrate optimieren können. 300LE bietet auch Optionen für niedrige, mittlere und hohe Ätzgeschwindigkeit und eine breite Palette von Ätzchemikalien zur schnellen Entfernung jeder Oxid-, Nitrid- und Kohlenstoff-Resistschicht. Insgesamt ist HITACHI 300LE Ätzer eine ausgezeichnete Wahl für hochpräzises und schnelles Ätzen von mikroelektronischen Substraten. Mit seinen zuverlässigen Ätzchemien und der präzisen Positionskontrolle ermöglicht es Anwendern, qualitativ hochwertige Ergebnisse in Ätz- und Ascheprozessen zu erzielen.