Gebraucht HITACHI M 308 #9068909 zu verkaufen

HITACHI M 308 ist ein professioneller, automatisierter Etcher/Ascher, der für hochpräzises, kostengünstiges Ätzen und Aschen von Substraten entwickelt wurde. Zu den Merkmalen gehören ein hochfrequenter galvanostatischer Ätzer sowie ein niederfrequenter galvanostatischer Ascher, der sowohl die chemische als auch die physikalische Patinierung von Substraten adressieren kann. Dies ermöglicht ein zuverlässiges Ätzen/Aschen mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit. Die Vorrichtung selbst besteht aus einer Basisstation, einer Aschekammer, einer Gasquelle und zwei Schränken. Die Basisstation enthält alle Elektronik und Heizelemente, die zur Steuerung des Durchflusses und der Nutzung des Gases erforderlich sind, sowie das Bedienfeld des Geräts. Die Aschekammer ist dort, wo das Substrat während der Ätz-/Ascheprozesse platziert wird, und die Gasquelle liefert das Gas für die Verarbeitung. Die beiden Schränke beherbergen die Gasquelle bzw. den Ascher. Das Gerät nutzt eine Kombination aus HF- und DC-Quellen zum Ätzen und Aschen von Substraten. Bei der HF-Ätzung wird die Hochfrequenzquelle über einen externen niederohmigen Generator gesteuert, mit dem HF-Strom durch das zu ätzende Objekt geleitet wird. HF-Ätzen ist in der Lage, durch eine Vielzahl von Metall und dielektrischen Materialien zu ätzen. DC-Ätzen hingegen dient zum Ätzen/Aschen von empfindlicheren und weniger exothermen Substraten. Sie nutzt eine niederfrequente Quelle, die den Strom durch das Substrat weitaus kontrollierter umgeht. HITACHI M-308 enthält auch eine Reihe von Sicherheits- und Diagnosefunktionen. Dazu gehören Prozessüberwachung, Leistungsmessungen und Notabschaltungssysteme, um sowohl die Sicherheit des Benutzers als auch des Produkts zu gewährleisten. Seine Temperatur- und Abscheidungsgeschwindigkeitsbereiche sind einstellbar, was den Benutzern die Flexibilität gibt, verschiedene Ätz-/Aschegrade zu erreichen. Darüber hinaus machen seine niedrigen Kosten und Größe es zu einer idealen Wahl für jede Labor-, Produktions- oder Forschungsumgebung.