Gebraucht HITACHI M 308 #9190914 zu verkaufen

Hersteller
HITACHI
Modell
M 308
ID: 9190914
Metal etch system With spares.
HITACHI M 308 ist eine Ätz- und Aschermaschine für Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Es kann sowohl zum Ätzen als auch zum Aschen in einer Vielzahl von Prozessen wie Kontaktlöchern, Streifen und Vias verwendet werden. Das System ist für einen hohen Durchsatz ausgelegt und kann bis zu acht Kammern gleichzeitig steuern. Das Gerät ist mit einer Reihe von Funktionen ausgestattet, die es für eine Vielzahl von Prozessen geeignet machen. Es verfügt über eine hochsensible Temperaturregelmaschine, die stabile Temperaturen für Präzisionsätzen und Aschen garantiert. Es hat auch ein lichtbogenarmes elektrisches Werkzeug, das das Risiko von unerwünschten Funken- und Lichtbogenschäden minimiert. Seine energetische Ionenstrahlquelle sorgt für gleichmäßige Abdeckung und gleichmäßiges Ätzen über das gesamte Substrat. Der Ionenstrahl kann in Energie und Intensität abgestimmt werden, was eine präzise Steuerung des Ätzprozesses ermöglicht. Zusätzlich verfügt die Anlage über ein Wasserstoffspülmodell, das ein Anhaften von Partikeln an der Waferoberfläche verhindert und Verschmutzungen minimiert. Das Gerät verfügt über eine fortschrittliche Plasmaätztechnologie, die verbesserte Ätzraten bei verbesserter Auflösung ermöglicht. Die Kammer ist mit vier Waferschüsseln ausgelegt, die die Bearbeitung von bis zu vier Wafern gleichzeitig ermöglichen. Es verfügt auch über zwei unabhängige Roboterarmsysteme, die das Be- und Entladen von Waferplatten ermöglichen. Die im System enthaltenen Sicherheitsmerkmale machen es für den Einsatz in einer Reinraumumgebung geeignet. Das Gerät ist mit nicht selbstbeachtenden Zeitgebern ausgestattet und kann in einer Umgebung mit potenziell explosiven oder gefährlichen Materialien betrieben werden. Die Maschine verfügt auch über ein Gasanalysator-Werkzeug, das entworfen ist, um Gasaustritte in der Anlage zu erkennen. Insgesamt ist HITACHI M-308 ein effizientes und zuverlässiges Ätz- und Aschermodell, das für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie geeignet ist. Das Gerät ist hochpräzise und mit fortschrittlichen Funktionen wie einem Temperaturregelsystem, einer Ionenstrahlquelle und einer Wasserstoffspüleinheit ausgelegt, um eine optimale Leistung zu gewährleisten. Dies, kombiniert mit seinen Sicherheitsmerkmalen, macht es zu einer idealen Maschine für den Einsatz in einer Reinraumumgebung.
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