Gebraucht HITACHI M 308ATE #293799553 zu verkaufen

Hersteller
HITACHI
Modell
M 308ATE
ID: 293799553
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
Etcher, 8" Missing parts: EC Turbo pump Turbomolecular pump controller Chamber process kit Chiller Pumps Scrubber Transfer robot LL / UL cassette motor AC gate cylinder Magnetron generator: EC, AC SEIKO SEIKI STP-H2000K Turbo pump Micro PC 1995 vintage.
HITACHI M 308AE ist eine anspruchsvolle Ätz-/Aschermaschine für Halbleiter- und Mikroelektronik-Fertigungsprozesse. Dieses fortschrittliche Tool verfügt über modernste Technologie, um präzise und zuverlässige Verarbeitungsfunktionen für kritische Anwendungen in der Halbleiterindustrie bereitzustellen. Die Maschine ist eine vielseitige Plattform, die ein leistungsstarkes Ätzen und Aschen verschiedener Materialien mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Im Kern von M 308AE befindet sich eine robuste Vakuumkammer, die eine saubere und kontrollierte Bearbeitungsumgebung gewährleistet. Diese Kammer ist mit mehreren Gaseinlässen und Plasmaquellen ausgestattet, um eine breite Palette von Ätz- und Aschemikalien zu erleichtern. Das System verfügt auch über erweiterte HF-Netzteile und Impedanzanpassungsnetzwerke, die Plasmaentladungen hoher Dichte für eine effiziente Materialentfernung und Oberflächenmodifizierung liefern. HITACHI M 308AE verwendet eine Kombination aus Plasmaätz- und Aschetechniken, um eine präzise und selektive Materialabtragung zu erreichen. Plasmaätzen ist ein trockenes Ätzverfahren, das reaktive Ionen verwendet, um Material von einer Substratoberfläche chemisch wegzuätzen. Diese Technik ermöglicht eine hochauflösende Strukturierung und präzise Merkmalssteuerung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Andererseits beinhaltet das Plasmaaschen die Entfernung organischer Materialien durch Oxidation in einer Plasmaumgebung. Dieses Verfahren ist wesentlich, um Photoresistreste und andere Verunreinigungen von der Substratoberfläche zu entfernen. Das Gerät ist mit einer ausgeklügelten Gasfördermaschine ausgestattet, die eine präzise Steuerung von Prozessparametern wie Gasdurchflussraten, Druck und Zusammensetzung ermöglicht. Diese Steuerung ermöglicht es Anwendern, die Prozessbedingungen an spezifische Ätz- und Ascheanforderungen für unterschiedliche Materialien und Gerätestrukturen anzupassen. M 308AE verfügt auch über erweiterte Endpunkterkennungsfunktionen, die eine Echtzeit-Überwachung des Prozesses ermöglichen, um eine genaue Kontrolle der Ätztiefen und Entfernungsraten zu gewährleisten. HITACHI M 308AE ist ein hochautomatisiertes Tool mit intuitiven Benutzeroberflächen und fortschrittlicher Prozesssteuerungssoftware. Das Asset ist mit rezeptgesteuerten Steuerungsfunktionen ausgestattet, mit denen Benutzer komplexe Prozessabläufe einfach definieren und ausführen können. Darüber hinaus bietet die Software Funktionen zur Echtzeit-Datenüberwachung und -protokollierung, die Anwendern detaillierte Informationen zu Prozessparametern und Leistungsmetriken bieten. Zusätzlich zu seinen erweiterten Verarbeitungsfunktionen ist M 308AE mit Blick auf Produktivität und Zuverlässigkeit konzipiert. Das Modell ist mit automatisierten Wafer-Handling-Systemen ausgestattet, die ein effizientes Be- und Entladen von Substraten ermöglichen, die Zykluszeiten reduzieren und den Durchsatz verbessern. Das Gerät verfügt außerdem über robuste Hardwarekomponenten und integrierte Diagnosetools, die einen kontinuierlichen Betrieb gewährleisten und Ausfallzeiten minimieren. Insgesamt ist HITACHI M 308AE ein vielseitiges und zuverlässiges Ätz-/Aschersystem, das Präzision, Effizienz und Flexibilität für Halbleiterherstellungsanwendungen bietet. Mit seiner fortschrittlichen Technologie, benutzerfreundlichen Schnittstellen und Hochdurchsatzfunktionen eignet sich das Gerät ideal für anspruchsvolle Produktionsumgebungen, in denen eine Hochleistungsverarbeitung für die Erreichung kritischer Gerätespezifikationen unerlässlich ist.
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