Gebraucht HITACHI M-602 #9364269 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
HITACHI M-602 ist ein weit verbreitetes Ätz- oder Aschegerät zur Durchführung von Ätz- und Ascheprozessen auf Wafern. Es ist ein Werkzeug zur Herstellung von Halbleiterscheiben und wird verwendet, um unerwünschte Materialschichten von der Oberfläche des Wafers wegzuätzen. M-602 kann verwendet werden, um eine Reihe von Wafern wie einkristallines Silizium und Silizium auf Isolatoren (SOI) Wafer herzustellen. HITACHI M-602 verfügt über eine Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) -Kammer, die in der Lage ist, Hochgeschwindigkeitsaschprozesse durchzuführen. Es ist mit einem Hochfrequenzgenerator ausgestattet, der hocheffizient ist und langanhaltende Plasmaentladungen erzeugt. Die PECVD-Kammer ist optimiert, um eine modifizierte Atmosphäre zu schaffen, um die Ätz- und Ascheprozesse zu erleichtern. Darüber hinaus verfügt die PECVD-Kammer über ein Quarzfenster, das eine klare Beobachtung des Plasmabearbeitungsfortschritts ermöglicht. M-602 verfügt auch über eine Waferübertragungseinrichtung, die Wafer aus der PECVD-Kammer in ein Analysesystem oder ein Handlingblech überführen kann. Die Wafer-Transfereinheit ist für die Positionierung von Wafern mit hoher Genauigkeit ausgelegt und bietet Benutzern die Möglichkeit, Wafer genau zu ätzen und zu waschen. Darüber hinaus ist HITACHI M-602 mit einer automatischen Rückseitenbehandlungsmaschine ausgestattet, die einen automatisierten Reinigungsprozess der Rückseite des Wafers ermöglicht. M-602 bietet mehrere Betriebsmodi, die auf die spezifischen Anforderungen der verschiedenen Arten der Waferbearbeitung zugeschnitten sind. Es kommt auch mit einem eingebauten Bedientool (OSI), mit dem Benutzer die Parameter der Ätz-/Ascheprozesse anpassen und speichern können. Darüber hinaus verfügt HITACHI M-602 über eine Reihe von Diagnosewerkzeugen, darunter ein Offline-Überwachungsgerät, Temperatur/Drucksensoren und andere verschiedene Sicherheits-/Überwachungsfunktionen. Insgesamt ist M-602 ein fortschrittliches Ätz-/Aschegerät, das speziell entwickelt wurde, um Ätz- und Ascheprozesse auf Wafern durchzuführen. Es verfügt über eine Vielzahl von Funktionen und Funktionen, die es ermöglichen, hochpräzise Ätz- und Ascheprozesse zu fördern. HITACHI M-602 ist einfach zu bedienen und kann auf die Anforderungen verschiedener Arten von Wafern und Anwendungen zugeschnitten werden. Darüber hinaus ist M-602 auf ein zuverlässiges und effizientes Ergebnis ausgelegt.
Es liegen noch keine Bewertungen vor