Gebraucht KEM / KOKUSAI Lambda 200C #293643016 zu verkaufen

KEM / KOKUSAI Lambda 200C
ID: 293643016
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
Asher, 8" 2001 vintage.
KEM/KOKUSAI Lambda 200C ist eine Art Plasmaätzer/Ascher, der in der Mikroschaltungsherstellung und der Halbleiterforschung und -entwicklung verwendet wird. Dieser fortschrittliche Ätzer/Ascher ist mit einer Hochvakuumkammer ausgestattet und hat eine Kapazität von bis zu 200Watt. Mit einem 24-Zoll-Radius ist die Maschine in der Lage, kleine bis mittlere Bauteile schnell zu ätzen oder zu aschen. KEM Lambda 200C ist mit zwei unabhängigen, 200 Watt Plasma-Generator-Netzteilen ausgestattet, wodurch es mit einem konstant stabilen Betrieb sehr zuverlässig ist. Darüber hinaus hat es ein kompaktes Design, geringere Geräuschleistung und vibrationsfreien Betrieb, so dass es in einer Dunstabzugshaube oder Labor platziert werden kann. Seine Kammer besteht aus einer Vorkammer und einer Hauptätzkammer und hat eine sichere, einpunktspezifische Turbo-Molekularpumpe. Die Ätz- und Aschefunktionen von KOKUSAI Lambda 200C sind auch überlegen als andere Ätzer/Ascher. Die Ätzfunktion nutzt ein Tieftemperaturplasma, das Dielektrika, Metalle und verschiedene Materialien durchätzen kann, ohne nennenswerte Wärme zu erzeugen. Der Aschevorgang der Maschine verwendet aktivierte Sauerstoffradikale, um Photoresists zu entfernen, so dass das Schichtsubstrat unbeeinflusst bleibt. Mit seiner intuitiven grafischen Touchscreen-Benutzeroberfläche und seinen Speicherkapazitäten ist Lambda 200C bedienerfreundlich. Der Ätzer/Ascher kann bis zu 99 Prozessrezepte speichern, die bearbeitet, dupliziert und gespeichert werden können. Darüber hinaus verfügt dieses Modell sowohl über manuelle als auch programmierte Betriebsarten, was eine einfachere und effizientere Bedienung ermöglicht. Insgesamt ist KEM/KOKUSAI Lambda 200C ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um präzise, konsistente Ätz- und Ascheergebnisse auf einer breiten Palette von Materialien zu liefern. Mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche, der Hochvakuumkammer und erweiterten Plasmageneratornetzteilen ist es eine ideale Wahl für Forschung und Entwicklung sowie für die Massenproduktion.
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