Gebraucht KEM / KOKUSAI Lambda 200C #293643017 zu verkaufen

KEM/KOKUSAI Lambda 200C ist ein Ätzer/Ascher, der ideal für eine breite Palette von Anwendungen ist, einschließlich Halbleiter- und Flachplattenmaterialien. Diese Maschine verwendet Hochspannung und Strom, um eine Vielzahl von Materialien von Silizium bis Glas zu ätzen oder zu aschen. KEM Lambda 200C verwendet einen Substrathalter, eine Plasmakammer und eine Prozesssteuereinheit, um die Prozessparameter zu steuern. Die Steuereinheit ermöglicht es dem Bediener, den Prozess durch Feineinstellungen des HF-Leistungspegels, der Frequenz und der Vorspannung genau zu steuern. Der Substrathalter ist in der Lage, Substrate mit einer Dicke bis zu 8 "(20 cm) und mit Temperaturen bis zu -60oC (-75oF) aufzunehmen. Eine Vielzahl von Halterkonfigurationen stehen zur Unterstützung einer Reihe von Substratmaterialien und -größen zur Verfügung. Die Plasmakammer besteht aus einer Edelstahlkammer mit wassergekühltem Kammerkopf und Elektroden mit vakuumdichtem Quarzfenster. Es ist für den Einsatz mit Niedertemperatur-Prozessgasen ausgelegt und ermöglicht es, das Substrat höheren Temperaturen als andere Verfahren auszusetzen. Die Prozesssteuereinheit ist intuitiv und benutzerfreundlich und ermöglicht eine einfache Auswahl von Parametern wie HF-Leistung, Frequenz, Vorspannung und Gasfluss. Es ermöglicht dem Bediener auch, die Prozessparameter anzupassen, um gewünschte Ergebnisse zu erzielen. Die Prozesssteuereinheit ist auch in der Lage, automatisierte Berichterstattung, so dass der Bediener Daten zu speichern und die Ergebnisse ihres Ätz-/Ascheprozesses zu überwachen. KOKUSAI Lambda 200C ist in der Lage, bis zu 4 "(10 cm) Substrate zu reinigen und kann an die Spezifikationen der meisten Halbleiter- und Flachplattenmaterialien angepasst werden. Mit seiner intuitiven Benutzeroberfläche und integrierten Sicherheitsfunktionen ist Lambda 200C eine ideale Lösung für jeden Ätz-/Ascheprozess.