Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Metal45-CIP #9241985 zu verkaufen

LAM RESEARCH 2300 Metal45-CIP Ätzer ist eine leistungsstarke, mehrkammerige, plasmabasierte Ausrüstung für Ätzprozesse in der Halbleiterindustrie. Es verfügt über eine patentierte modulare Source-Host-Architektur, die Flexibilität bietet und den Durchsatz für komplexe Ätzprozesse verbessert. Die große Kammergröße von 400mm ermöglicht ein leistungsfähiges System zur serienmäßigen Geräteproduktion sowie spezialisierte Waferbearbeitung. Darüber hinaus bietet diese Einheit hohe Funktionalität und Prozessgenauigkeit durch Substratbe- und -entladung, mehrere Kammerkonfigurationen und die Fähigkeit, sowohl isotrope als auch anisotrope Ätzungen durchzuführen. Das Metal45-CIP ist mit Mehrfrequenz-kapazitiv gekoppelten Plasmaquellen (CCP) ausgestattet, die den Frequenzbereich von 100MHz bis 2.45GHz überspannen. Dieser breite Frequenzbereich ermöglicht es der Maschine, mehrere Materialien und Schichten mit überlegener Prozesssteuerung und Gleichmäßigkeit aufgrund der Flexibilität der Einstellung der Quellleistung, Temperatur und Druck zu ätzen. Darüber hinaus ist die Metal45-CIP in der Lage, die Vorspannung des Substrats zu steuern, um die Leistung RF am Suszeptor zu reduzieren. Mit dieser verbesserten Prozesssteuerung sind Halbleiterdesigner in der Lage, eine hochgenaue Steuerung von Dotierungs-, Kontakt- und Gatestrukturen zu erreichen. Die patentierte Multiport Source Host (MPSH) -Architektur des Metal45-CIP ermöglicht den direkten vertikalen Eintritt der Gasquellen, ermöglicht eine schnelle und effiziente Gasverteilung und reduziert so Gaspuffeffekte und verbessert die Ätzgleichförmigkeit. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über einen modularen Aufbau, der den gleichzeitigen Betrieb von bis zu 3 Kammern ermöglicht und flexible Asset-Konfigurationen basierend auf den Anwendungs- und Prozessanforderungen ermöglicht. Darüber hinaus ist das Metal45-CIP mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen wie mechanischen Verriegelungen für das Source-Host- und Druck-Leck-Erkennungsmodell ausgestattet, um das Personal zu schützen und den sicheren Betrieb zu erleichtern. Darüber hinaus verfügt es über erweiterte Überwachungs- und Diagnosefunktionen wie Fernüberwachung für höhere Produktivität und Verfügbarkeit der Ausrüstung. Abschließend ist 2300 Metal45-CIP Ätzer ein fortschrittliches, mehrkammeriges, plasmabasiertes System für Ätzprozesse in der Halbleiterindustrie. Mit mehreren Kammerkonfigurationen, einem breiten Frequenzbereich, einer modularen MPSH-Architektur und erweiterten Sicherheitsfunktionen bietet das Gerät eine hohe Prozesssteuerung für effiziente und zuverlässige Leistung.