Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys KIYO Poly #9292953 zu verkaufen

LAM RESEARCH 2300 Versys KIYO Poly Ätzer/Ascher ist ein fortschrittliches Gerät, das auf Zuverlässigkeit und hohe Leistung in den Ätz- und Ascheprozessen ausgelegt ist. Es verfügt über eine einzige große Kammer in der Lage, zwei Prozesse gleichzeitig unterzubringen, so dass es ideal für Highthroughput-Produktion. Das vielseitige Design von 2300 Versys KIYO Poly etcher/asher bietet Benutzern eine Vielzahl von Tools und seine leistungsstarken Prozessfunktionen ermöglichen es Benutzern, ihre Operationen anzupassen. Die Kammer ist sehr robust gebaut und mit ihrer einzigartigen Materialauswahl und Konstruktion kann sie extremen Temperaturen, Drücken und aggressiven Chemikalien problemlos standhalten. Die Kammer beinhaltet auch eine spezielle Subumgebungskühlung durch die Verwendung eines Molekularsiebes. Der duale Prozess führt schnelles und effizientes Ätzen und Aschen durch, wobei beide Prozesse innerhalb derselben Kammer durchgeführt werden. Der Ätzer nutzt die LAM RESEARCH Flip Etch Technology (FET) mit integrierter Prozess- und Gerätesteuerungs-Intelligenz. Die Aschetechnologie in LAM RESEARCH 2300 Versys KIYO Poly etcher/asher, bekannt als CAT-M Carbides Asher, wurde entwickelt, um Partikel zu verwalten und die Selektivität die beste Aschestrategie für untere oder obere Schichten zu bestimmen. Es erzeugt schichtselektive Ergebnisse und die Rückstandsreduktionsrate beträgt bis zu 97% und 99,9% für Poly-H-CMP. Die Plattform bietet auch Wartungsumgebungen, die dem Kunden eine schnelle Serviceantwort und eine schnelle Pannendiagnose bieten. Dadurch werden Ausfallzeiten reduziert und die Prozesserträge erhöht. 2300 Versys KIYO Poly Ätzer/Ascher ist außerdem energieeffizient und mit einem Leistungsüberwachungssystem ausgestattet, das optimale Bedingungen für einen gleichbleibenden Einsatz gewährleistet. LAM RESEARCH 2300 Versys KIYO Poly etcher/asher ist das ultimative Werkzeug für Hochdurchsatz-Ätz- und Ascheprozesse. Seine Zuverlässigkeit, Leistung und fortschrittlichen Eigenschaften machen es zur idealen Wahl für eine Reihe von Anwendungen in der Halbleiterindustrie. Seine Vielseitigkeit kombiniert mit seiner Benutzerfreundlichkeit bieten einen Prozess, der sicher ist, die Bedürfnisse jedes Benutzers zu erfüllen.