Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9152530 zu verkaufen

ID: 9152530
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
Metal etcher, 12" Loadport: SMIF (EFEM) Metal core tool Process chamber: (2) Metal etchers (2) MWAVE Strips SMIF: Signal tower: (3) Colors (3) Load ports, 799-901175-004 ATM Robot, P/N: 151864 Buffer station: (25) Slots Aligner Transfer chamber: Load lock: (2) LL / (4) Slot cool chambers Model of transfer robot: Megatran7 / Brooks Parts no. of rocker valve: (4) 853-007859-9223 TM Pressure gauge: HPS Series 907 / MKS TM Pressure control: MKS Series 640 LL Pressure gauge: Hasting Etch chamber: PM2 & PM3: pressure gauge: MKS, 0.1 Torr Throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT Turbo pump: ATH2300M / Alcatel TCP RF generator: APEX2013 / AE Bias RF generator: APEX1513 / AE MW Chamber: PM1 & PM4: Model of chamber: 2300 MWAVE STRPR Throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT MW Generator: Revolution, 7690LAM-23 Configuration of MFC: Ar 2SLM O2 5SLM N2 1SLM Gas panel, etch chamber: PM2: Type of gas panel: 16-Line IGS gas box Type: Block 16-Gas channels MFC: SFC2480FAAPD2 Configuration of gas: O2 20 SCCM NF3 150/500 SCCM CF4 60/200 SCCM SF6 60/200 SCCM HBr 30/100 SCCM CH2F2 6/20 SCCM SiCl4 20 SCCM SiCl4 60/200 SCCM CHF3 30/100 SCCM Ar 150/500 SCCM N2 60/200 SCCM Cl2 15/50 SCCM O2 150/500 SCCM BCl3 50/200 SCCM CF4 15/50 SCCM Cl2 150/500 SCCM PM3: Type of gas panel: 16-Line IGS gas box Type: Block 16-Gas channels Model of MFC: SFC2480FAAPD2 Configuration of gas: O2 20 SCCM NF3 150/500 SCCM CF4 60/200 SCCM SF6 60/200 SCCM HBr 30/100 SCCM CH2F2 6/20 SCCM SiCl4 20 SCCM SiCl4 60/200 SCCM CHF3 30/100 SCCM Ar 150/500 SCCM N2 60/200 SCCM Cl2 15/50 SCCM O2 150/500 SCCM BCl3 50/200 SCCM CF4 15/50 SCCM Cl2 150/500 SCCM Power: 208 VAC, 3 phase, 4 wires, 400 A, 50 / 60 Hz 2009 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo ist eine Hochleistungs-Ätz-/Aschermaschine für fortgeschrittene Anwendungen. Es bietet fortschrittliche Temperaturregelung, präzise Drucküberwachung und verbesserte Prozessflexibilität. Der Versys Kiyo kann eine Vielzahl von Substraten und Materialien, einschließlich anorganischer und organischer Materialien, ätzen und aschen. Es verfügt über ionisierte und nicht-ionisierte Plasmamodi für maximale Prozessflexibilität. Das System ist mit einem proprietären digitalen Bildverarbeitungsmodul ausgestattet, das schnell und genau die gewünschten Parameter einstellt und konsistente Prozessergebnisse liefert. Der 2300 Versys Kiyo besitzt einen zylindrischen Reaktorraum mit einem Gesamtdurchmesser von 24 Zoll. Die bewegliche Innenelektrode besteht aus Graphit und bietet eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und präzise Temperaturregelung für die gesamte Kammer. Es gibt auch einen Rohrbalg, der hilft, einen konstanten Gasdruck innerhalb der Kammer aufrechtzuerhalten und eine zuverlässige Wafer-Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. Dieses Gerät ist auch mit einer Cryo-Pumpe ausgestattet, die es der Kammer ermöglicht, ein Vakuumniveau von 10-6 Torr zu erreichen. Darüber hinaus ist der Versys Kiyo die neueste Generation von LAM RESEARCH Geräten, um schnelles Verschlusswerkzeug anzubieten. Diese fortschrittliche Werkzeugtechnologie ermöglicht es dem Anwender, die Kammer schnell zu verschließen, auch wenn weniger optimale Prozessbedingungen vorliegen. Der schnelle Verschluss reduziert zudem die Ausfallzeiten erheblich und behält gleichbleibende Prozessergebnisse bei. LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo ist eine umfassende Maschine, die für flexible, zuverlässige und berechenbare Leistung entwickelt wurde. Mit seiner Kombination aus genauer Temperaturregelung und zuverlässiger Drucküberwachung können Anwender schnellere, wiederholbare Prozessergebnisse erwarten. Es wird mit automatisierter Funktionsüberwachung, prädiktiver Fehlererkennung und einer Vielzahl von Support- und Wartungstools geliefert. Dieses Tool ist auch mit verschiedenen Prozessrezepten kompatibel, so dass Benutzer schnell die gewünschten Rezepte auswählen und ändern können. 2300 Versys Kiyo bietet ein sicheres und wiederholbares Ätz-/Veraschungs-Asset für High-End-Anwendungen.
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