Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9152530 zu verkaufen
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ID: 9152530
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2009
Metal etcher, 12"
Loadport: SMIF (EFEM)
Metal core tool
Process chamber:
(2) Metal etchers
(2) MWAVE Strips
SMIF:
Signal tower: (3) Colors
(3) Load ports, 799-901175-004
ATM Robot, P/N: 151864
Buffer station: (25) Slots
Aligner
Transfer chamber:
Load lock: (2) LL / (4) Slot cool chambers
Model of transfer robot: Megatran7 / Brooks
Parts no. of rocker valve: (4) 853-007859-9223
TM Pressure gauge: HPS Series 907 / MKS
TM Pressure control: MKS Series 640
LL Pressure gauge: Hasting
Etch chamber:
PM2 & PM3:
pressure gauge: MKS, 0.1 Torr
Throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT
Turbo pump: ATH2300M / Alcatel
TCP RF generator: APEX2013 / AE
Bias RF generator: APEX1513 / AE
MW Chamber:
PM1 & PM4:
Model of chamber: 2300 MWAVE STRPR
Throttle gate valve: 65048-PH52-ADR1 / VAT
MW Generator: Revolution, 7690LAM-23
Configuration of MFC:
Ar 2SLM
O2 5SLM
N2 1SLM
Gas panel, etch chamber:
PM2:
Type of gas panel: 16-Line IGS gas box
Type: Block
16-Gas channels
MFC: SFC2480FAAPD2
Configuration of gas:
O2 20 SCCM
NF3 150/500 SCCM
CF4 60/200 SCCM
SF6 60/200 SCCM
HBr 30/100 SCCM
CH2F2 6/20 SCCM
SiCl4 20 SCCM
SiCl4 60/200 SCCM
CHF3 30/100 SCCM
Ar 150/500 SCCM
N2 60/200 SCCM
Cl2 15/50 SCCM
O2 150/500 SCCM
BCl3 50/200 SCCM
CF4 15/50 SCCM
Cl2 150/500 SCCM
PM3:
Type of gas panel: 16-Line IGS gas box
Type: Block
16-Gas channels
Model of MFC: SFC2480FAAPD2
Configuration of gas:
O2 20 SCCM
NF3 150/500 SCCM
CF4 60/200 SCCM
SF6 60/200 SCCM
HBr 30/100 SCCM
CH2F2 6/20 SCCM
SiCl4 20 SCCM
SiCl4 60/200 SCCM
CHF3 30/100 SCCM
Ar 150/500 SCCM
N2 60/200 SCCM
Cl2 15/50 SCCM
O2 150/500 SCCM
BCl3 50/200 SCCM
CF4 15/50 SCCM
Cl2 150/500 SCCM
Power: 208 VAC, 3 phase, 4 wires, 400 A, 50 / 60 Hz
2009 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo ist eine Hochleistungs-Ätz-/Aschermaschine für fortgeschrittene Anwendungen. Es bietet fortschrittliche Temperaturregelung, präzise Drucküberwachung und verbesserte Prozessflexibilität. Der Versys Kiyo kann eine Vielzahl von Substraten und Materialien, einschließlich anorganischer und organischer Materialien, ätzen und aschen. Es verfügt über ionisierte und nicht-ionisierte Plasmamodi für maximale Prozessflexibilität. Das System ist mit einem proprietären digitalen Bildverarbeitungsmodul ausgestattet, das schnell und genau die gewünschten Parameter einstellt und konsistente Prozessergebnisse liefert. Der 2300 Versys Kiyo besitzt einen zylindrischen Reaktorraum mit einem Gesamtdurchmesser von 24 Zoll. Die bewegliche Innenelektrode besteht aus Graphit und bietet eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und präzise Temperaturregelung für die gesamte Kammer. Es gibt auch einen Rohrbalg, der hilft, einen konstanten Gasdruck innerhalb der Kammer aufrechtzuerhalten und eine zuverlässige Wafer-Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. Dieses Gerät ist auch mit einer Cryo-Pumpe ausgestattet, die es der Kammer ermöglicht, ein Vakuumniveau von 10-6 Torr zu erreichen. Darüber hinaus ist der Versys Kiyo die neueste Generation von LAM RESEARCH Geräten, um schnelles Verschlusswerkzeug anzubieten. Diese fortschrittliche Werkzeugtechnologie ermöglicht es dem Anwender, die Kammer schnell zu verschließen, auch wenn weniger optimale Prozessbedingungen vorliegen. Der schnelle Verschluss reduziert zudem die Ausfallzeiten erheblich und behält gleichbleibende Prozessergebnisse bei. LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo ist eine umfassende Maschine, die für flexible, zuverlässige und berechenbare Leistung entwickelt wurde. Mit seiner Kombination aus genauer Temperaturregelung und zuverlässiger Drucküberwachung können Anwender schnellere, wiederholbare Prozessergebnisse erwarten. Es wird mit automatisierter Funktionsüberwachung, prädiktiver Fehlererkennung und einer Vielzahl von Support- und Wartungstools geliefert. Dieses Tool ist auch mit verschiedenen Prozessrezepten kompatibel, so dass Benutzer schnell die gewünschten Rezepte auswählen und ändern können. 2300 Versys Kiyo bietet ein sicheres und wiederholbares Ätz-/Veraschungs-Asset für High-End-Anwendungen.
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