Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9301851 zu verkaufen
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ID: 9301851
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2016
Etcher, 12"
Seismic brackets system
SEMI Wafer
Cassette type: 25-Slots
Gas system type: IGS Gas box
Mylar floor template
Manuals electronic CD-ROM
Positions:
Position 1: 2300 Microwave strip
Position 2 and 3: 2300 Versys Kiyo
Non-standard systems:
NSR300156 Kiyo
NSR301982 RMV Kiyo PM Position-4
Process modules:
(2) Quick clean kits for 2300 Versys Kiyo
(1) Quick clean kit for 2300 MW Strip
Options:
Standard chamber pinnacle (-814)
Tunable ESC Wafer clamping mechanism
Standard fingers RF Ground bracket (-006)
Quartz edge ring
Standard Quartz tunable injector
Standard injector shield
Standard plasma screen (-032)
Gas weldment: Enhanced passivated (-110)
Standard ESC Hose kit
Compression ESC Facility plate
Liner: ACME Coated universal (-838)
Standard chamber manometer
Wafer lift mechanism: Direct drive
Voltage control interface: 800 V
O-rings: Chemraz
Standard TCP Coil
TCP Source dual: 1500 W
300MM Turbo pump: 2200 L/S BOCE (Seiko Seiki)
Heated foreline
Endpoint detection: 2300 LSR with OES 2
Standard chamber viewport window
Chamber isolation valve: Barrier seal door
Viton vacuum valve
Lower isolation valve: Chemraz dry (-006)
Water control passive:
RF PCW Control
Pump to TCU: 25ft
TCU to PM: 50ft
PM to Pump interconnect: 50ft
TCU to RPDB: 25ft
Pump to RPDB: 25ft
Microwave strip options:
O-rings: Fluorosilicon / TEV
Microwave source: Quartz
Baffle: Quartz
Leak check port
Chamber isolation valve: Barrier seal door
Throttle valve (-003)
2-Line on-board gas delivery
PM to Pump interconnect: 50ft
Pump to RPDB: 25ft
Gas box:
Standard gas containment
Top exhaust gas system
Gas box:
Advanced chamber condition control
MFC Type: STEC SEC-Z313
No display in transducer
(16) Gas lines
Heated gas lines: Position 1 and 2
Gas box inlet option: Regulated inlet gas panel
Standard gas filter
Non-standard PM/GB Feature:
(2) FUJIKIN NSR 301983 MFC on PM4 IGSGB <PM4>
Line6 : FUJIKIN FCST1005NZFC_4J2, SO2 at 200sccm
Line16 : FUJIKIN FCST1005NZFC_4J2, Ar at 500sccm
2300 Platform
Standard front fascia
Front end load port cassette: (3) FOUPs
Cassette ID: Keyence BCR Carrier ID
Factory automation: OHT PIO Sensor
Airlock wafer fingers: Stainless wafer pads
EPX Backing pumps for TM
Control rack configuration:
Side monitor user interface
Earth Leakage Breaker (ELB)
RPDB
Interconnect cables: TM to RPDB, 50ft
Signal tower
System options:
System calibration and alignment
Service step for PM
Robot CDM
Non-Standard TM Feature:
NSR6975 Facility IF board kit and SW Key
NSR101080 Vespel endeffector on V2 TM
Gas box configuration:
PM2:
Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow
Line 01 / SZ313 / SICL4 / 50
Line 03 / SZ313 / NF3 / 500
Line 04 / SZ313 / CL2 / 200
Line 05 / SZ313 / HBr / 500
Line 06 / SZ313 / SO2 / 200
Line 07 / SZ313 / CH2F2 / 200
Line 09 / SZ313 / O2 / 10
Line 10 / SZ313 / SF6 / 50
Line 11 / SZ313 / O2 / 500
Line 12 / SZ313 / N2 / 100
Line 13 / SZ313 / CF4 / 200
Line 14 / SZ313 / CHF3 / 300
Line 15 / SZ313 / He / 500
Line 16 / SZ313 / Ar / 500
PM3:
Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow
Line 01 / SZ313 / SICL4 / 50
Line 03 / SZ313 / NF3 / 500
Line 04 / SZ313 / CL2 / 200
Line 05 / SZ313 / HBr / 500
Line 06 / SZ313 / SO2 / 200
Line 07 / SZ313 / CH2F2 / 200
Line 09 / SZ313 / O2 / 10
Line 10 / SZ313 / SF6 / 50
Line 11 / SZ313 / O2 / 500
Line 12 / SZ313 / N2 / 100
Line 13 / SZ313 / CF4 / 200
Line 14 / SZ313 / CHF3 / 300
Line 15 / SZ313 / He / 500
Line 16 / SZ313 / Ar / 500
PM4:
Line / MFC Type / Gas type / Gas flow
Line 01 / SZ313 / SICL4 / 50
Line 03 / SZ313 / NF3 / 500
Line 04 / SZ313 / CL2 / 200
Line 05 / SZ313 / HBr / 500
Line 06 / SZ313 / SO2 / 200
Line 07 / SZ313 / CH2F2 / 200
Line 09 / SZ313 / O2 / 10
Line 10 / SZ313 / SF6 / 50
Line 11 / SZ313 / O2 / 500
Line 12 / SZ313 / N2 / 100
Line 13 / SZ313 / CF4 / 200
Line 14 / SZ313 / CHF3 / 300
Line 15 / SZ313 / He / 500
Line 16 / SZ313 / Ar / 500
2016 vintage.
LAM RESEARCH 2.300 Versys Kiyo ist eine vielseitige und effiziente Ätzenausrüstung entworfen spezifisch für Anwendungen wie Silikoneinkristalldünnfilmabsetzung, fortgeschrittene Fotolithographie und Oberflächenkratzerreparatur. Dieses System ist ein High-End-Ätzer/Ascher mit fortschrittlichen Technologien wie Plasmaätzen, Trockenoxidabscheidung, Ätzen und Resistabscheidung ausgestattet. 2300 Versys Kiyo verfügt über eine 20kHz Plasmaeingangsfrequenz sowie eine breite Palette von Prozessgasen für zuverlässige Ätzprozesse. Es ist eine vollautomatische Maschine, die sich um den gesamten Prozess kümmert, vom Beladen des Wafers bis zum Entladen der Ergebnisse. Um genaue und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten, verfügt der Ätzer über eine automatische Wafer-Handhabungseinheit und eine eingebaute Vakuumkammer. LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo bietet auch die neueste In-situ-Bildgebung und erweiterte Prozesssteuerung, die es dem Benutzer ermöglicht, den Prozess zu überwachen und schnell Änderungen vorzunehmen. Um konsistente, hochpräzise Ergebnisse zu gewährleisten, ist die Maschine mit einem 6-Achsen-Neigungs- und 2-Achsen-Gierpositionierer ausgestattet. Es bietet auch eine optionale Inkammer-Ionenquelle zum Ätzen mit kontrollierten atmosphärischen Prozessen. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und seiner langlebigen, zuverlässigen Konstruktion ist 2300 Versys Kiyo eine ausgezeichnete Wahl für eine breite Palette anspruchsvoller Ätz- und Ascheanwendungen. Das Tool ist nach strengen Sicherheitsstandards zertifiziert und mit einem ausfallsicheren Asset ausgestattet, das eine zusätzliche Schutzschicht während des Ätzprozesses bietet. Darüber hinaus ist LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo mit seiner hohen Effizienz und schnellen Wende ideal für Rapid Prototyping und schnelle Entwicklung im Produktdesign.
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