Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9301851 zu verkaufen

ID: 9301851
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2016
Etcher, 12" Seismic brackets system SEMI Wafer Cassette type: 25-Slots Gas system type: IGS Gas box Mylar floor template Manuals electronic CD-ROM Positions: Position 1: 2300 Microwave strip Position 2 and 3: 2300 Versys Kiyo Non-standard systems: NSR300156 Kiyo NSR301982 RMV Kiyo PM Position-4 Process modules: (2) Quick clean kits for 2300 Versys Kiyo (1) Quick clean kit for 2300 MW Strip Options: Standard chamber pinnacle (-814) Tunable ESC Wafer clamping mechanism Standard fingers RF Ground bracket (-006) Quartz edge ring Standard Quartz tunable injector Standard injector shield Standard plasma screen (-032) Gas weldment: Enhanced passivated (-110) Standard ESC Hose kit Compression ESC Facility plate Liner: ACME Coated universal (-838) Standard chamber manometer Wafer lift mechanism: Direct drive Voltage control interface: 800 V O-rings: Chemraz Standard TCP Coil TCP Source dual: 1500 W 300MM Turbo pump: 2200 L/S BOCE (Seiko Seiki) Heated foreline Endpoint detection: 2300 LSR with OES 2 Standard chamber viewport window Chamber isolation valve: Barrier seal door Viton vacuum valve Lower isolation valve: Chemraz dry (-006) Water control passive: RF PCW Control Pump to TCU: 25ft TCU to PM: 50ft PM to Pump interconnect: 50ft TCU to RPDB: 25ft Pump to RPDB: 25ft Microwave strip options: O-rings: Fluorosilicon / TEV Microwave source: Quartz Baffle: Quartz Leak check port Chamber isolation valve: Barrier seal door Throttle valve (-003) 2-Line on-board gas delivery PM to Pump interconnect: 50ft Pump to RPDB: 25ft Gas box: Standard gas containment Top exhaust gas system Gas box: Advanced chamber condition control MFC Type: STEC SEC-Z313 No display in transducer (16) Gas lines Heated gas lines: Position 1 and 2 Gas box inlet option: Regulated inlet gas panel Standard gas filter Non-standard PM/GB Feature: (2) FUJIKIN NSR 301983 MFC on PM4 IGSGB <PM4> Line6 : FUJIKIN FCST1005NZFC_4J2, SO2 at 200sccm Line16 : FUJIKIN FCST1005NZFC_4J2, Ar at 500sccm 2300 Platform Standard front fascia Front end load port cassette: (3) FOUPs Cassette ID: Keyence BCR Carrier ID Factory automation: OHT PIO Sensor Airlock wafer fingers: Stainless wafer pads EPX Backing pumps for TM Control rack configuration: Side monitor user interface Earth Leakage Breaker (ELB) RPDB Interconnect cables: TM to RPDB, 50ft Signal tower System options: System calibration and alignment Service step for PM Robot CDM Non-Standard TM Feature: NSR6975 Facility IF board kit and SW Key NSR101080 Vespel endeffector on V2 TM Gas box configuration: PM2: Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow Line 01 / SZ313 / SICL4 / 50 Line 03 / SZ313 / NF3 / 500 Line 04 / SZ313 / CL2 / 200 Line 05 / SZ313 / HBr / 500 Line 06 / SZ313 / SO2 / 200 Line 07 / SZ313 / CH2F2 / 200 Line 09 / SZ313 / O2 / 10 Line 10 / SZ313 / SF6 / 50 Line 11 / SZ313 / O2 / 500 Line 12 / SZ313 / N2 / 100 Line 13 / SZ313 / CF4 / 200 Line 14 / SZ313 / CHF3 / 300 Line 15 / SZ313 / He / 500 Line 16 / SZ313 / Ar / 500 PM3: Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow Line 01 / SZ313 / SICL4 / 50 Line 03 / SZ313 / NF3 / 500 Line 04 / SZ313 / CL2 / 200 Line 05 / SZ313 / HBr / 500 Line 06 / SZ313 / SO2 / 200 Line 07 / SZ313 / CH2F2 / 200 Line 09 / SZ313 / O2 / 10 Line 10 / SZ313 / SF6 / 50 Line 11 / SZ313 / O2 / 500 Line 12 / SZ313 / N2 / 100 Line 13 / SZ313 / CF4 / 200 Line 14 / SZ313 / CHF3 / 300 Line 15 / SZ313 / He / 500 Line 16 / SZ313 / Ar / 500 PM4: Line / MFC Type / Gas type / Gas flow Line 01 / SZ313 / SICL4 / 50 Line 03 / SZ313 / NF3 / 500 Line 04 / SZ313 / CL2 / 200 Line 05 / SZ313 / HBr / 500 Line 06 / SZ313 / SO2 / 200 Line 07 / SZ313 / CH2F2 / 200 Line 09 / SZ313 / O2 / 10 Line 10 / SZ313 / SF6 / 50 Line 11 / SZ313 / O2 / 500 Line 12 / SZ313 / N2 / 100 Line 13 / SZ313 / CF4 / 200 Line 14 / SZ313 / CHF3 / 300 Line 15 / SZ313 / He / 500 Line 16 / SZ313 / Ar / 500 2016 vintage.
LAM RESEARCH 2.300 Versys Kiyo ist eine vielseitige und effiziente Ätzenausrüstung entworfen spezifisch für Anwendungen wie Silikoneinkristalldünnfilmabsetzung, fortgeschrittene Fotolithographie und Oberflächenkratzerreparatur. Dieses System ist ein High-End-Ätzer/Ascher mit fortschrittlichen Technologien wie Plasmaätzen, Trockenoxidabscheidung, Ätzen und Resistabscheidung ausgestattet. 2300 Versys Kiyo verfügt über eine 20kHz Plasmaeingangsfrequenz sowie eine breite Palette von Prozessgasen für zuverlässige Ätzprozesse. Es ist eine vollautomatische Maschine, die sich um den gesamten Prozess kümmert, vom Beladen des Wafers bis zum Entladen der Ergebnisse. Um genaue und wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten, verfügt der Ätzer über eine automatische Wafer-Handhabungseinheit und eine eingebaute Vakuumkammer. LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo bietet auch die neueste In-situ-Bildgebung und erweiterte Prozesssteuerung, die es dem Benutzer ermöglicht, den Prozess zu überwachen und schnell Änderungen vorzunehmen. Um konsistente, hochpräzise Ergebnisse zu gewährleisten, ist die Maschine mit einem 6-Achsen-Neigungs- und 2-Achsen-Gierpositionierer ausgestattet. Es bietet auch eine optionale Inkammer-Ionenquelle zum Ätzen mit kontrollierten atmosphärischen Prozessen. Mit seinen fortschrittlichen Eigenschaften und seiner langlebigen, zuverlässigen Konstruktion ist 2300 Versys Kiyo eine ausgezeichnete Wahl für eine breite Palette anspruchsvoller Ätz- und Ascheanwendungen. Das Tool ist nach strengen Sicherheitsstandards zertifiziert und mit einem ausfallsicheren Asset ausgestattet, das eine zusätzliche Schutzschicht während des Ätzprozesses bietet. Darüber hinaus ist LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo mit seiner hohen Effizienz und schnellen Wende ideal für Rapid Prototyping und schnelle Entwicklung im Produktdesign.
Es liegen noch keine Bewertungen vor