Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys Metal #293829553 zu verkaufen

LAM RESEARCH 2300 Versys Metal
ID: 293829553
Chamber Quick clean kits Pendulum valve clean kits Chamber manometer filter Wafer clamping mechanism: Bipolar ESC, Ceramic Edge ring: Standard ESC Hose kit: Standard with shaft seal ESC Facility plate: Compression facility plate Chamber manometer: Standard Wafer lift mechanism: Direct drive Focus ring: Ceramic Capacitance lock: No capacitance lock Voltage control interface: 1200V Gas feed: Top O-rings: Chemraz TCP Coil plating: Improved coil plating 200MM Turbo pump: 2200 L/s BOCE (Seiko Seiki) Endpoint detection: Optical emission spectroscopy Chamber isolation valve: Chemraz seal door on VAT Rkr Lower isolation valve: Chemraz (-101) Pump to TCU: 50ft TCU to PM: 100ft PM to Pump interconnect: 100ft TCU to RPDB: 50ft Pump to RPDB: 50 ft Gas box: Mounting location: Transport module Door: Window Primary valve options: Lock-out tag-out manual valve Facilitization: No gas interface box Gas system exhaust: Top exh (Heat and smoke ABTMNT) Gas system metrology Primary proc gas line valves: CIP Secondary proc gas line valves: CIP Jetstream gas box: Config MFC by Line? : Yes: Line by line (16) Process gas lines Heated gas lines option heated lines: Pos 1 & 2 Manifold options: Multi-exit Peripherals: Metal etch backing pumps cust: Supply: IH-600 Metal etch TCU config cust supply: 4080 Plus PEDB TCU Hose kit: Lam supplied TCU to PM hose type: Standard Gas box config: Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow / Heated / Facilitization Line 01 / - / No gas / - / - / Yes / No Line 02 / SD519 / BCL3 / 500 / Yes / No Line 03 / SD519 / O2 / 200 / No / No Line 04 / SD519 / CL2 / 300 / No / No Line 05 / SD519 / NF3 / 200 / No / No Line 06 / - / No gas / - / No / No Line 07 / SD519 / SF6 / 200 / No / No Line 08 / SD519 / N2 / 500 / No / No Line 09 / SD519 / CF4 / 200 / No / No Line 10 / SD519 / AR / 500 / No / No Line 11 / SD519 / HE / 300 / No / No Line 12 / - / No gas / - / No / No Line 13 / - / No gas / - / No / No Line 14 / - / No gas / - / No / No Line 15 / - / No gas / - / No / No Line 16 / - / No gas / - / No / No.
LAM RESEARCH 2300 Versys Metal ist ein hochmoderner Ätzer und Ascher, der speziell für Metallschichten in fortgeschrittenen Halbleiterherstellungsprozessen entwickelt wurde. Dieses Gerät verfügt über innovative Technologie und Funktionen, um präzise und zuverlässige Ätz- und Ascheleistungen für Serienumgebungen zu liefern. Das Kernstück von 2300 Versys Metal ist seine fortschrittliche Prozessfähigkeit, die das Ätzen und Aschen verschiedener Metallschichten mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit und Selektivität ermöglicht. Dieses System ist in der Lage, eine breite Palette von Metallen zu handhaben, die üblicherweise in der Halbleiterherstellung verwendet werden, einschließlich Aluminium, Kupfer, Titan und Wolfram. Die vielseitige Prozessfähigkeit von LAM RESEARCH 2300 Versys Metal macht es für eine Vielzahl von Anwendungen wie Metallgatterätzen, Metallkontaktmustern und Metallentfernung in fortschrittlichen Logik- und Speichergeräten gut geeignet. Zu den Schlüsselkomponenten von 2300 Versys Metal gehören eine leistungsfähige Plasmaquelle, eine fortschrittliche Gasfördereinheit, eine präzise Substrathandlingsplattform und eine intuitive Prozesssteuerungssoftware. Die Plasmaquelle erzeugt ein hochreaktives Plasma, das ein effizientes Ätzen und Aschen von Metallschichten ermöglicht, während die Gasfördermaschine die Strömung und Zusammensetzung von Prozessgasen steuert, um optimale Prozessbedingungen zu erreichen. Die Präzisions-Substrat-Handling-Plattform sorgt für eine genaue Ausrichtung und Kontrolle von Wafern während der Verarbeitung, während die Prozesssteuerungssoftware eine benutzerfreundliche Schnittstelle für Rezeptentwicklung, Prozessüberwachung und Datenanalyse bietet. Eines der bemerkenswerten Merkmale von LAM RESEARCH 2300 Versys Metal ist seine fortschrittliche Endpunkt-Erkennungsfähigkeit, die eine Echtzeit-Überwachung des Ätz- und Ascheprozesses ermöglicht, um eine präzise Kontrolle über Prozessendpunkte zu erreichen. Dieses Merkmal ist wesentlich für die Erzielung von Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit beim Ätzen und Veraschen von Metallschichten, da es dem Werkzeug ermöglicht, den Prozess automatisch zu stoppen, sobald der gewünschte Endpunkt erreicht ist. Darüber hinaus ist die Anlage mit fortschrittlichen Kammerreinigungsfunktionen ausgestattet, um die Prozessreinheit zu erhalten und Kreuzkontaminationen zwischen verschiedenen Metallschichten zu verhindern. 2300 Versys Metal ist mit Blick auf Produktivität und Kosteneffizienz konzipiert und bietet einen hohen Durchsatz und niedrige Betriebskosten. Dieses Modell ist in der Lage, eine große Anzahl von Wafern pro Stunde zu verarbeiten, so dass es ideal für Serienumgebungen ist. Die Geräte beinhalten auch energieeffiziente Technologien, um den Stromverbrauch zu minimieren und die Betriebskosten über die Lebensdauer der Geräte zu senken. Zusammenfassend ist LAM RESEARCH 2300 Versys Metal ein hochmodernes Ätz- und Aschersystem, das auf die Metallschichtverarbeitung in der fortschrittlichen Halbleiterherstellung zugeschnitten ist. Mit seiner fortschrittlichen Prozessfähigkeit, Präzisionssteuerungsfunktionen und hoher Durchsatzleistung bietet dieses Gerät Halbleiterherstellern eine zuverlässige und kostengünstige Lösung zum Ätzen und Aschen von Metallschichten in hochmodernen Halbleiterbauelementen.
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