Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys Metal #293829553 zu verkaufen
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ID: 293829553
Chamber
Quick clean kits
Pendulum valve clean kits
Chamber manometer filter
Wafer clamping mechanism: Bipolar ESC, Ceramic
Edge ring: Standard
ESC Hose kit: Standard with shaft seal
ESC Facility plate: Compression facility plate
Chamber manometer: Standard
Wafer lift mechanism: Direct drive
Focus ring: Ceramic
Capacitance lock: No capacitance lock
Voltage control interface: 1200V
Gas feed: Top
O-rings: Chemraz
TCP Coil plating: Improved coil plating
200MM Turbo pump: 2200 L/s BOCE (Seiko Seiki)
Endpoint detection: Optical emission spectroscopy
Chamber isolation valve: Chemraz seal door on VAT Rkr
Lower isolation valve: Chemraz (-101)
Pump to TCU: 50ft
TCU to PM: 100ft
PM to Pump interconnect: 100ft
TCU to RPDB: 50ft
Pump to RPDB: 50 ft
Gas box:
Mounting location: Transport module
Door: Window
Primary valve options: Lock-out tag-out manual valve
Facilitization: No gas interface box
Gas system exhaust: Top exh (Heat and smoke ABTMNT)
Gas system metrology
Primary proc gas line valves: CIP
Secondary proc gas line valves: CIP
Jetstream gas box:
Config MFC by Line? : Yes: Line by line
(16) Process gas lines
Heated gas lines option heated lines: Pos 1 & 2
Manifold options: Multi-exit
Peripherals:
Metal etch backing pumps cust: Supply: IH-600
Metal etch TCU config cust supply: 4080 Plus
PEDB
TCU Hose kit: Lam supplied
TCU to PM hose type: Standard
Gas box config:
Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow / Heated / Facilitization
Line 01 / - / No gas / - / - / Yes / No
Line 02 / SD519 / BCL3 / 500 / Yes / No
Line 03 / SD519 / O2 / 200 / No / No
Line 04 / SD519 / CL2 / 300 / No / No
Line 05 / SD519 / NF3 / 200 / No / No
Line 06 / - / No gas / - / No / No
Line 07 / SD519 / SF6 / 200 / No / No
Line 08 / SD519 / N2 / 500 / No / No
Line 09 / SD519 / CF4 / 200 / No / No
Line 10 / SD519 / AR / 500 / No / No
Line 11 / SD519 / HE / 300 / No / No
Line 12 / - / No gas / - / No / No
Line 13 / - / No gas / - / No / No
Line 14 / - / No gas / - / No / No
Line 15 / - / No gas / - / No / No
Line 16 / - / No gas / - / No / No.
LAM RESEARCH 2300 Versys Metal ist ein hochmoderner Ätzer und Ascher, der speziell für Metallschichten in fortgeschrittenen Halbleiterherstellungsprozessen entwickelt wurde. Dieses Gerät verfügt über innovative Technologie und Funktionen, um präzise und zuverlässige Ätz- und Ascheleistungen für Serienumgebungen zu liefern. Das Kernstück von 2300 Versys Metal ist seine fortschrittliche Prozessfähigkeit, die das Ätzen und Aschen verschiedener Metallschichten mit außergewöhnlicher Gleichmäßigkeit und Selektivität ermöglicht. Dieses System ist in der Lage, eine breite Palette von Metallen zu handhaben, die üblicherweise in der Halbleiterherstellung verwendet werden, einschließlich Aluminium, Kupfer, Titan und Wolfram. Die vielseitige Prozessfähigkeit von LAM RESEARCH 2300 Versys Metal macht es für eine Vielzahl von Anwendungen wie Metallgatterätzen, Metallkontaktmustern und Metallentfernung in fortschrittlichen Logik- und Speichergeräten gut geeignet. Zu den Schlüsselkomponenten von 2300 Versys Metal gehören eine leistungsfähige Plasmaquelle, eine fortschrittliche Gasfördereinheit, eine präzise Substrathandlingsplattform und eine intuitive Prozesssteuerungssoftware. Die Plasmaquelle erzeugt ein hochreaktives Plasma, das ein effizientes Ätzen und Aschen von Metallschichten ermöglicht, während die Gasfördermaschine die Strömung und Zusammensetzung von Prozessgasen steuert, um optimale Prozessbedingungen zu erreichen. Die Präzisions-Substrat-Handling-Plattform sorgt für eine genaue Ausrichtung und Kontrolle von Wafern während der Verarbeitung, während die Prozesssteuerungssoftware eine benutzerfreundliche Schnittstelle für Rezeptentwicklung, Prozessüberwachung und Datenanalyse bietet. Eines der bemerkenswerten Merkmale von LAM RESEARCH 2300 Versys Metal ist seine fortschrittliche Endpunkt-Erkennungsfähigkeit, die eine Echtzeit-Überwachung des Ätz- und Ascheprozesses ermöglicht, um eine präzise Kontrolle über Prozessendpunkte zu erreichen. Dieses Merkmal ist wesentlich für die Erzielung von Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit beim Ätzen und Veraschen von Metallschichten, da es dem Werkzeug ermöglicht, den Prozess automatisch zu stoppen, sobald der gewünschte Endpunkt erreicht ist. Darüber hinaus ist die Anlage mit fortschrittlichen Kammerreinigungsfunktionen ausgestattet, um die Prozessreinheit zu erhalten und Kreuzkontaminationen zwischen verschiedenen Metallschichten zu verhindern. 2300 Versys Metal ist mit Blick auf Produktivität und Kosteneffizienz konzipiert und bietet einen hohen Durchsatz und niedrige Betriebskosten. Dieses Modell ist in der Lage, eine große Anzahl von Wafern pro Stunde zu verarbeiten, so dass es ideal für Serienumgebungen ist. Die Geräte beinhalten auch energieeffiziente Technologien, um den Stromverbrauch zu minimieren und die Betriebskosten über die Lebensdauer der Geräte zu senken. Zusammenfassend ist LAM RESEARCH 2300 Versys Metal ein hochmodernes Ätz- und Aschersystem, das auf die Metallschichtverarbeitung in der fortschrittlichen Halbleiterherstellung zugeschnitten ist. Mit seiner fortschrittlichen Prozessfähigkeit, Präzisionssteuerungsfunktionen und hoher Durchsatzleistung bietet dieses Gerät Halbleiterherstellern eine zuverlässige und kostengünstige Lösung zum Ätzen und Aschen von Metallschichten in hochmodernen Halbleiterbauelementen.
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