Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys Poly #9158592 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9158592
Poly etcher
EFEM: Part no
Load port (1): 002-7200-33
Load port (2): 002-7200-33
Load port (3): 002-7200-29
Atm robot: Yes
Wafer alignment: Yes
Power control rack:
AC Rack:
Model no: 2300
Vintage: 2007
Rear user interface monitor: Yes
Robot controller: No
P/C: Yes
Vacuum TM:
Airlock (Right): Yes
Airlock (Left): Yes
VTM Robot: No
TM / PM Facility lines: Yes
Slop valve load lock (Right): Yes
Slop valve load lock (Left): Yes
Vacuum TM: Part no
Inner door Assy (Air lock right): 853-007851-232
Inner door Assy (Air lock left): 853-007851-232
Inner door Assy (PM2): 853-007859-925
Inner door Assy (PM3): 853-007859-212
Inner door Assy (PM4): 853-007859-223
Process module:
PM1:
2300 Poly:
Model no: 2300 poly
TCP match: Yes
TCP coil: Yes
Bias match: Yes
Process manometer:
Model no: E28B-30584
Range: 0.1 Torr
Process manometer valve assy: No
AC/SSR Box: Yes
Fore line manometer: Yes
Turbo pump fore line isolation valves, manometers: Yes
Turbo pump: Yes (ATM2800M)
VME Assembly: Yes
VAT Pendulum valve: Yes
Foreline assy: No
He cooling / lift box: Yes
RF Cart: PM2
Turbo controller: Yes
Generator (TCP): Yes
Generator (BIAS): Yes
PM1:
Gas box (GIB): Yes
MFC 1_CL2: Yes
MFC 2_HBR: Yes
MFC 3_SF6: Yes
MFC 4_AR: Yes
MFC 5_CH3F: Yes
MFC 6_CF4: Yes
MFC 7_SF6: Yes
MFC 8_02: Yes
MFC 9_NF3: Yes
MFC 10_O2: Yes
MFC 11_HE: Yes
MFC 12_CHF3: Yes
RPDB Power box: Yes
Process module:
PM2:
2300 Poly:
Model no: 2300 poly
Vintage: 2007
TCP match: Yes
TCP Coil: Yes
Bias match: Yes
Process manometer:
Model no: E28B-23747
Range: 0.1 Torr
Process manometer valve assy: Yes
AC/SSR Box: Yes
Fore line manometer: Yes
Turbo pump fore line isolation valves, manometers: No
Turbo pump: Yes (ATM2300M)
VME Assembly: Yes
VAT pendulum valve: Yes
Foreline assy: Yes
He cooling / lift box: Yes
RF Cart: PM3
Turbo Controller: Yes
Generator (TCP): Yes
Generator (BIAS): Yes
PM2:
Gas box (GIB): Yes
MFC 1_CL2: Yes
MFC 2_HBR: Yes
MFC 3_SF6: Yes
MFC 4_AR: Yes
MFC 5_CH3F: Yes
MFC 6_CF4: Yes
MFC 7_SF6: Yes
MFC 8_02: Yes
MFC 9_NF3: Yes
MFC 10_O2: Yes
Process module:
PM3:
2300 Poly:
Model no: 2300 poly
Vintage: 2007
TCP match: Yes
TCP Coil: Yes
Bias match: Yes
Process manometer:
Model no: E28B-23747
Range: 0.1 Torr
Process manometer valve assy: No
AC/SSR Box: Yes
Fore line manometer: Yes
Turbo pump fore line isolation valves, manometers: Yes
Turbo pump: Yes (ATM2800M)
VME Assembly: Yes
VAT Pendulum valve: Yes
Foreline assy: No
He cooling / lift box: Yes
RF Cart: PM4
Turbo controller: Yes
Generator (TCP): Yes
Generator (BIAS): Yes
PM3:
Gas box (GIB): Yes
MFC 1_CL2: Yes
MFC 2_HBR: Yes
MFC 3_SF6: Yes
MFC 4_AR: Yes
MFC 5_CH3F: Yes
MFC 6_CF4: Yes
MFC 7_SF6: Yes
MFC 8_02: Yes
MFC 9_NF3: Yes
MFC 10_O2: Yes
MFC 11_HE: Yes
MFC 12_CHF3: Yes
Vintage: 2007.
LAM RESEARCH 2300 Versys Poly ist eine fortschrittliche Ätzausrüstung (auch als Ashing bekannt), die für überlegenen Durchsatz, Effizienz und Genauigkeit entwickelt wurde. Diese Anlage ist ein vollautomatisches System zum Ätzen von Siliziumscheiben mit Plasmatechnologie. 2300 Versys Poly bietet eine Reihe von Funktionen für Qualität und Zuverlässigkeit bei jedem Ätzauftrag. LAM RESEARCH 2300 Versys Poly ist mit einer 4-Zoll-Prozesskammer und einer 2-Zoll-Tiefenätzfunktion ausgestattet, die das Ätzen von Wafern auf ein Maximum von 7 um ermöglicht. Es wurde unter Berücksichtigung höchster Standards gebaut und erfasst Datenpunkte für jedes Ätzrezept, um die Qualitätskontrolle und die Wiederholbarkeit der Prozesse sicherzustellen. Das Gerät verfügt zudem über eine maximale Plasma-Brennstoffmischfähigkeit von 0,6 sccm/min, die für jeden Ätzauftrag für maximale Effizienz und Durchsatz optimiert werden kann, sowie die Fähigkeit, eine Vielzahl von Prozessrezepten einzugeben. Die Rezepte können über einen integrierten Rezeptmanager gespeichert, verfolgt und abgerufen werden. Die Maschine ist für eine Vielzahl von Ätzanwendungen wie Oxidätzen und Wafer-Mustern konzipiert. Es verfügt über ein Open-Field-Ionen-Source-Design, mit dem der Benutzer den Ionenstrom über eine Reihe von Energien überwachen kann. Es hat auch die Fähigkeit, eine optimale Wafertemperaturregelung während des gesamten Prozesses beizubehalten und eine konstante Ätzleistung zu gewährleisten. 2300 Versys Poly verfügt auch über ein hochempfindliches Endpunkterkennungswerkzeug, das Laserlichtstreuung verwendet, um eine präzise Ätzstopp-Messung bereitzustellen. Diese Funktion ist vorteilhaft für kritische Ätzanwendungen, bei denen die Genauigkeit der Schlüssel ist. LAM RESEARCH 2300 Versys Poly wurde entwickelt, um benutzerfreundlich und einfach zu bedienen, mit digitalen Bildgebungsfunktionen und einer intuitiven Bedienoberfläche. Die Anlage ist zudem sehr zuverlässig und mit den neuesten Industriekomponenten gebaut, die Zuverlässigkeit und geringere Betriebskosten bieten. 2300 Versys Poly ist ein fortschrittliches Ätzmodell, das eine Vielzahl von Funktionen kombiniert, um einen überlegenen Durchsatz, Effizienz und Genauigkeit für eine Vielzahl von Ätzanwendungen zu bieten. Die Ausrüstung wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten Ätzanforderungen zu erfüllen und liefert zuverlässige und konsistente Ergebnisse für viele industrielle Anwendungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor