Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys Poly #9158592 zu verkaufen

ID: 9158592
Poly etcher EFEM: Part no Load port (1): 002-7200-33 Load port (2): 002-7200-33 Load port (3): 002-7200-29 Atm robot: Yes Wafer alignment: Yes Power control rack: AC Rack: Model no: 2300 Vintage: 2007 Rear user interface monitor: Yes Robot controller: No P/C: Yes Vacuum TM: Airlock (Right): Yes Airlock (Left): Yes VTM Robot: No TM / PM Facility lines: Yes Slop valve load lock (Right): Yes Slop valve load lock (Left): Yes Vacuum TM: Part no Inner door Assy (Air lock right): 853-007851-232 Inner door Assy (Air lock left): 853-007851-232 Inner door Assy (PM2): 853-007859-925 Inner door Assy (PM3): 853-007859-212 Inner door Assy (PM4): 853-007859-223 Process module: PM1: 2300 Poly: Model no: 2300 poly TCP match: Yes TCP coil: Yes Bias match: Yes Process manometer: Model no: E28B-30584 Range: 0.1 Torr Process manometer valve assy: No AC/SSR Box: Yes Fore line manometer: Yes Turbo pump fore line isolation valves, manometers: Yes Turbo pump: Yes (ATM2800M) VME Assembly: Yes VAT Pendulum valve: Yes Foreline assy: No He cooling / lift box: Yes RF Cart: PM2 Turbo controller: Yes Generator (TCP): Yes Generator (BIAS): Yes PM1: Gas box (GIB): Yes MFC 1_CL2: Yes MFC 2_HBR: Yes MFC 3_SF6: Yes MFC 4_AR: Yes MFC 5_CH3F: Yes MFC 6_CF4: Yes MFC 7_SF6: Yes MFC 8_02: Yes MFC 9_NF3: Yes MFC 10_O2: Yes MFC 11_HE: Yes MFC 12_CHF3: Yes RPDB Power box: Yes Process module: PM2: 2300 Poly: Model no: 2300 poly Vintage: 2007 TCP match: Yes TCP Coil: Yes Bias match: Yes Process manometer: Model no: E28B-23747 Range: 0.1 Torr Process manometer valve assy: Yes AC/SSR Box: Yes Fore line manometer: Yes Turbo pump fore line isolation valves, manometers: No Turbo pump: Yes (ATM2300M) VME Assembly: Yes VAT pendulum valve: Yes Foreline assy: Yes He cooling / lift box: Yes RF Cart: PM3 Turbo Controller: Yes Generator (TCP): Yes Generator (BIAS): Yes PM2: Gas box (GIB): Yes MFC 1_CL2: Yes MFC 2_HBR: Yes MFC 3_SF6: Yes MFC 4_AR: Yes MFC 5_CH3F: Yes MFC 6_CF4: Yes MFC 7_SF6: Yes MFC 8_02: Yes MFC 9_NF3: Yes MFC 10_O2: Yes Process module: PM3: 2300 Poly: Model no: 2300 poly Vintage: 2007 TCP match: Yes TCP Coil: Yes Bias match: Yes Process manometer: Model no: E28B-23747 Range: 0.1 Torr Process manometer valve assy: No AC/SSR Box: Yes Fore line manometer: Yes Turbo pump fore line isolation valves, manometers: Yes Turbo pump: Yes (ATM2800M) VME Assembly: Yes VAT Pendulum valve: Yes Foreline assy: No He cooling / lift box: Yes RF Cart: PM4 Turbo controller: Yes Generator (TCP): Yes Generator (BIAS): Yes PM3: Gas box (GIB): Yes MFC 1_CL2: Yes MFC 2_HBR: Yes MFC 3_SF6: Yes MFC 4_AR: Yes MFC 5_CH3F: Yes MFC 6_CF4: Yes MFC 7_SF6: Yes MFC 8_02: Yes MFC 9_NF3: Yes MFC 10_O2: Yes MFC 11_HE: Yes MFC 12_CHF3: Yes Vintage: 2007.
LAM RESEARCH 2300 Versys Poly ist eine fortschrittliche Ätzausrüstung (auch als Ashing bekannt), die für überlegenen Durchsatz, Effizienz und Genauigkeit entwickelt wurde. Diese Anlage ist ein vollautomatisches System zum Ätzen von Siliziumscheiben mit Plasmatechnologie. 2300 Versys Poly bietet eine Reihe von Funktionen für Qualität und Zuverlässigkeit bei jedem Ätzauftrag. LAM RESEARCH 2300 Versys Poly ist mit einer 4-Zoll-Prozesskammer und einer 2-Zoll-Tiefenätzfunktion ausgestattet, die das Ätzen von Wafern auf ein Maximum von 7 um ermöglicht. Es wurde unter Berücksichtigung höchster Standards gebaut und erfasst Datenpunkte für jedes Ätzrezept, um die Qualitätskontrolle und die Wiederholbarkeit der Prozesse sicherzustellen. Das Gerät verfügt zudem über eine maximale Plasma-Brennstoffmischfähigkeit von 0,6 sccm/min, die für jeden Ätzauftrag für maximale Effizienz und Durchsatz optimiert werden kann, sowie die Fähigkeit, eine Vielzahl von Prozessrezepten einzugeben. Die Rezepte können über einen integrierten Rezeptmanager gespeichert, verfolgt und abgerufen werden. Die Maschine ist für eine Vielzahl von Ätzanwendungen wie Oxidätzen und Wafer-Mustern konzipiert. Es verfügt über ein Open-Field-Ionen-Source-Design, mit dem der Benutzer den Ionenstrom über eine Reihe von Energien überwachen kann. Es hat auch die Fähigkeit, eine optimale Wafertemperaturregelung während des gesamten Prozesses beizubehalten und eine konstante Ätzleistung zu gewährleisten. 2300 Versys Poly verfügt auch über ein hochempfindliches Endpunkterkennungswerkzeug, das Laserlichtstreuung verwendet, um eine präzise Ätzstopp-Messung bereitzustellen. Diese Funktion ist vorteilhaft für kritische Ätzanwendungen, bei denen die Genauigkeit der Schlüssel ist. LAM RESEARCH 2300 Versys Poly wurde entwickelt, um benutzerfreundlich und einfach zu bedienen, mit digitalen Bildgebungsfunktionen und einer intuitiven Bedienoberfläche. Die Anlage ist zudem sehr zuverlässig und mit den neuesten Industriekomponenten gebaut, die Zuverlässigkeit und geringere Betriebskosten bieten. 2300 Versys Poly ist ein fortschrittliches Ätzmodell, das eine Vielzahl von Funktionen kombiniert, um einen überlegenen Durchsatz, Effizienz und Genauigkeit für eine Vielzahl von Ätzanwendungen zu bieten. Die Ausrüstung wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten Ätzanforderungen zu erfüllen und liefert zuverlässige und konsistente Ergebnisse für viele industrielle Anwendungen.
Es liegen noch keine Bewertungen vor