Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys #9008862 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
ID: 9008862
Metal etcher, 12"
Install Type: Stand-Alone
Application: M1/M2 Al Etch
System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5
Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH
Factory Interface/Automation:
Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation)
Brooks 300mm Load-Ports
25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1)
Overhead Transport System (OHT)
OHT PIO Sensors
Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read
Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader
Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM):
Platform Type: Version 2
User Interface-1: Front side, Flat Panel Display
User Interface-2: System side, Flat Panel Display
GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT
Status Lamp: (2) R/Y/G/B
1: Front side (FI), Upper-Left
2: Tool side, Upper-Right
EMOs: (2) Front, (2) Rear
Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station
Heated Fore-lines
Dual Drop Sub-Panel
UPS on System
GFI Main CB
TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box
Tool Fab Interlocks:
Gas Box Door (Local) Fab
Fab Gas Box Iso-Valves
Utility Box:
Regulators:
CDA: SMC AR2500
N2: Veriflo SQ-420E
He: Veriflo SQ-Micro
Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD)
Pressure Gauge: Bourdon Gauge
De-installed by OEM
2006 vintage.
LAM RESEARCH VErsys 2300 Ätzer/Ascher ist eine High-End-Ätz- und Aschermaschine, die sich ideal für Ätz- und Reinigungsprozessanwendungen in der Halbleiterindustrie eignet. Der Versys 2300 verfügt über eine fortschrittliche, leistungsentkoppelte Prozesskammer, die eine breite Palette von Druck-, Temperatur- und Gasströmen bietet, um allen Ätz- und Reinigungsanforderungen gerecht zu werden. Der Versys 2300 verfügt zudem über eine integrierte Lastschloßkammer und eine entfernte Plasmaquelle, die ein schnelles und effizientes Be- und Entladen von Wafern sowie den Einsatz von Niedertemperatur- und Hochtemperaturprozessen ermöglicht. Der Versys 2300 verfügt über das patentierte thermische Modulationsdesign von LAM, das eine optimale Kontrolle für Temperaturgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Diese Funktion macht es zu einem der zuverlässigsten Ätz-/Aschesysteme der Branche, da es eine verbesserte Genauigkeit in der Prozesskontrolle bietet und für konsistente, wiederholbare Ergebnisse sorgt. Der Versys 2300 bietet auch zwei Arten von Plasmaquellen: eine entfernte Plasmaquelle (RPS) und ein Plasmabrenner-System (PTS). Die entfernte Plasmaquelle verwendet ein Quarzfenster, um das Plasma zu enthalten und ist in der Lage, höhere Leistungen zu erzielen, während die Plasmabrenner-Einheit zuverlässiger ist und bei niedrigen Leistungen konsistentere Ergebnisse erzielt. Die Versys 2300 verfügt auch über eine fortschrittliche Prozessautomatisierungsmaschine namens SES (Smart Etcher Tool). Diese Anlage ermöglicht eine vollständige Automatisierung des Ätz- und Reinigungsprozesses mit minimalem Bedieneingang, was das Risiko menschlicher Fehler erheblich reduziert. Darüber hinaus kann das Modell mit einer Vielzahl von Softwareoptionen und angepassten Rezepten konfiguriert werden, um mehreren Prozessanforderungen gerecht zu werden. Das Versys 2300 kommt auch mit den innovativen KI-Diagnosetools von LAM, die Benutzern Zugriff auf Echtzeit-Überwachung ihrer Geräte und Prozessinformationen bieten. So können Anwender Prozessprobleme schnell und einfach erkennen und bei Bedarf Korrekturen vornehmen. Der Versys 2300 ist eine zuverlässige und effiziente Ausrüstung, die sich perfekt für jede Ätz- und Reinigungsanwendung in der Halbleiterindustrie eignet.
Es liegen noch keine Bewertungen vor