Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys #9008862 zu verkaufen

LAM RESEARCH 2300 Versys
ID: 9008862
Metal etcher, 12" Install Type: Stand-Alone Application: M1/M2 Al Etch System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5 Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH Factory Interface/Automation: Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation) Brooks 300mm Load-Ports 25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1) Overhead Transport System (OHT) OHT PIO Sensors Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM): Platform Type: Version 2 User Interface-1: Front side, Flat Panel Display User Interface-2: System side, Flat Panel Display GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT Status Lamp: (2) R/Y/G/B 1: Front side (FI), Upper-Left 2: Tool side, Upper-Right EMOs: (2) Front, (2) Rear Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station Heated Fore-lines Dual Drop Sub-Panel UPS on System GFI Main CB TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box Tool Fab Interlocks: Gas Box Door (Local) Fab Fab Gas Box Iso-Valves Utility Box: Regulators: CDA: SMC AR2500 N2: Veriflo SQ-420E He: Veriflo SQ-Micro Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD) Pressure Gauge: Bourdon Gauge De-installed by OEM 2006 vintage.
LAM RESEARCH VErsys 2300 Ätzer/Ascher ist eine High-End-Ätz- und Aschermaschine, die sich ideal für Ätz- und Reinigungsprozessanwendungen in der Halbleiterindustrie eignet. Der Versys 2300 verfügt über eine fortschrittliche, leistungsentkoppelte Prozesskammer, die eine breite Palette von Druck-, Temperatur- und Gasströmen bietet, um allen Ätz- und Reinigungsanforderungen gerecht zu werden. Der Versys 2300 verfügt zudem über eine integrierte Lastschloßkammer und eine entfernte Plasmaquelle, die ein schnelles und effizientes Be- und Entladen von Wafern sowie den Einsatz von Niedertemperatur- und Hochtemperaturprozessen ermöglicht. Der Versys 2300 verfügt über das patentierte thermische Modulationsdesign von LAM, das eine optimale Kontrolle für Temperaturgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Diese Funktion macht es zu einem der zuverlässigsten Ätz-/Aschesysteme der Branche, da es eine verbesserte Genauigkeit in der Prozesskontrolle bietet und für konsistente, wiederholbare Ergebnisse sorgt. Der Versys 2300 bietet auch zwei Arten von Plasmaquellen: eine entfernte Plasmaquelle (RPS) und ein Plasmabrenner-System (PTS). Die entfernte Plasmaquelle verwendet ein Quarzfenster, um das Plasma zu enthalten und ist in der Lage, höhere Leistungen zu erzielen, während die Plasmabrenner-Einheit zuverlässiger ist und bei niedrigen Leistungen konsistentere Ergebnisse erzielt. Die Versys 2300 verfügt auch über eine fortschrittliche Prozessautomatisierungsmaschine namens SES (Smart Etcher Tool). Diese Anlage ermöglicht eine vollständige Automatisierung des Ätz- und Reinigungsprozesses mit minimalem Bedieneingang, was das Risiko menschlicher Fehler erheblich reduziert. Darüber hinaus kann das Modell mit einer Vielzahl von Softwareoptionen und angepassten Rezepten konfiguriert werden, um mehreren Prozessanforderungen gerecht zu werden. Das Versys 2300 kommt auch mit den innovativen KI-Diagnosetools von LAM, die Benutzern Zugriff auf Echtzeit-Überwachung ihrer Geräte und Prozessinformationen bieten. So können Anwender Prozessprobleme schnell und einfach erkennen und bei Bedarf Korrekturen vornehmen. Der Versys 2300 ist eine zuverlässige und effiziente Ausrüstung, die sich perfekt für jede Ätz- und Reinigungsanwendung in der Halbleiterindustrie eignet.
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