Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys #9044491 zu verkaufen

LAM RESEARCH 2300 Versys ist ein Ätzer/Ascher mit hoher Produktivität und fortschrittlicher Prozessflexibilität für Ätz- und Ascheanwendungen. 2300 Versys basiert auf einer Dual Pocket Load Lock-Plattform mit HotWafer-Funktion für reduzierte Durchsatzverzögerungen, die höhere Durchsätze bei jedem Rezept ermöglicht. Das System verfügt über mehrere Ätz-, Reinigungs- und Aschetechnologien für verschiedene Anwendungen, darunter Reactive Ion Etching (RIE), Plasma Immersion Ion Deposition (PIID), Electron Cyclotron Resonance (ECR) und Kinetic Inductance Deposition (KID). Seine modulare Konstruktion umfasst alle notwendigen Elemente der Ätzmaschinen - Quelle, Kammer, Controller und Netzteile - in einem einzigen Chassis, so dass es einfach zu installieren und zu warten. LAM RESEARCH 2300 Versys bietet zudem eine höhere Prozessflexibilität, geringere Betriebskosten und geringere Materialkosten im Vergleich zu herkömmlichen Ätzsystemen. 2300 Versys ist sowohl für Produktions- als auch für Forschungsanwendungen konfigurierbar und ermöglicht benutzerdefinierte Konfigurationen für optimale Produktivität, Verfügbarkeit und Wiederholbarkeit. Seine zuverlässigen Hochleistungs-HF- und Mikrowellengeneratoren sind speziell für eine begrenzte Wartungsdauer dimensioniert. Ein einstellbares Source/Kammer-Isolationssystem unterstützt die niedrigstromige Plasmaerzeugung, während die flexiblen automatisierten Abstimmsteuerungen einen schnellen und genauen Prozessaufbau ermöglichen. Darüber hinaus verfügt LAM RESEARCH 2300 Versys über einen integrierten Massenstromregler und ein Gaspanel, das eine Echtzeit-Steuerung und Überwachung von Prozessgasen ermöglicht, und ein schnell wirkendes Reaktionskammertür- und Staubfilter bieten überlegenen Staubschutz und schnelles Be- und Entladen von Wafern. Insgesamt bietet 2300 Versys ein hohes Maß an Leistung und Flexibilität für Ätz- und Ascheanwendungen. Seine fortschrittlichen Technologien und integrierten Systeme gewährleisten hohe Zuverlässigkeit und Durchsatz für Produktions- und Forschungsumgebungen gleichermaßen.