Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys #9101595 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9101595
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Polysilicon etcher, 12"
Conducting layer dry etching system
23PM, MW 1PM System
(4) Chambers
2300 Transport module
(3) 2300 Kiyo45 etch process module
2300 Micro wave strip process module
(3) LSR Endpoint
Gas system:
Gas interface box, 3PM (IGS GB)
(3) 9 Gas configuration
(3) Additional gas line (AGS)/total 16 lines
(3) Two heated gas line
US option:
System UPS circuity
Seismic bracket (TM/PM/MWS)
System weight dispersion plate (for TM/PM/RPM)
ELB with ring lug - Qty 1
(3) Keyence BCR carrier ID
User interface: side monitor UI
(25) Slot input buffer station
Japanese safety label
Intermitted Buzzer
ULPA filter interlock
Service step for PM
(3) FOUP Config.
Additional gas line for MWS
(3) Label for gas name and flow direction
(3) Duct manifold exhaust PM to GB
Chamber A:
Chamber type:MWS
Gas config. (sccm)=MFC full scale
N2(1000), O2(5000), H2/N2(2000)
MW 2.45GHz, max 3000W
Stage heater max 300°C
Chamber B:
Chamber type:Kiyo45
Gas config. (sccm)=MFC full scale
SiCL4(100), CF4(300), CL2(200), NF3(500),
HBr(500), NF3(50), CH2F2(100), CHF3(300),
SF6(50), N2(100), O2(30), O2(500),
Ar(500), He(500)
Source 13.56MHz, max 1500W
Bias 13.56MHz, max 1500W
Stage heater max 70°C
Chamber C:
Chamber type:Kiyo45
Gas config. (sccm)=MFC full scale
SiCL4(100), CF4(300), CL2(200), NF3(500),
HBr(500), NF3(50), CH2F2(100), CHF3(300),
SF6(50), N2(100), O2(30), O2(500),
Ar(500), He(500)
Source 13.56MHz, max 1500W
Bias 13.56MHz, max 1500W
Stage heater max 70°C
Chamber D:
Chamber type:Kiyo45
Gas config. (sccm)=MFC full scale
SiCL4(100), CF4(300), CL2(200), NF3(500),
HBr(500), NF3(50), CH2F2(100), CHF3(300),
SF6(50), N2(100), O2(30), O2(500),
Ar(500), He(500)
Source 13.56MHz, max 1500W
Bias 13.56MHz, max 1500W
Stage heater max 70°C
Damaged/missing parts:
PM1 MW Generator, ASTEX FI20160-3
PM3 TMP Controller , Edwards SCU-1500
PM4 TMP Controller, Edwards SCU-1500
2008 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45 ist eine Ätz-/Ascheausrüstung, die für eine verbesserte Automatisierung und Prozessleistung im heutigen Halbleiterherstellungsprozess entwickelt wurde. LAM RESEARCH 2300 VERSYS KIYO45 Werkzeuge bieten eine zuverlässige, leistungsstarke und effiziente Lösung zum Plasmaätzen und reaktiven Ionenätzen (Asche) von Materialien auf Siliziumbasis. Die verbesserten Automatisierungsfunktionen dieser Werkzeuge machen sie ideal für die Batch-Verarbeitung von Wafern mit hohem Durchsatz mit typischen Laufzeiten von weniger als zwei Minuten. 2300 Versys Kiyo 45 etch/ash System verwendet einen diodengepumpten Laser, um eine stark kontrollierte Konzentration von reaktiven Ionen für die Ätz- und Ascheprozesse bereitzustellen. Der Hochleistungslaser ist in der Lage, niedrige Halogenwasserstoff- oder Helium-Sauerstoff (HEOM) -Gase zu erzeugen, um chemische Bindungen zu brechen und Materialschichten aus Wafern mit hoher Präzision zu entfernen. Der Ätz-/Ascheprozess wird durch Regelung der Temperatur, des Drucks, der Reagenzkonzentrationen und des Leistungsniveaus des Lasers durchgeführt. Dies ermöglicht jedes Mal hochgenaue und wiederholbare Ergebnisse. 2300 VERSYS KIYO45 hat drei Hauptkammern, darunter eine Ätzkammer, eine Aschekammer und eine Spülkammer. Die Ätzkammer verwendet eine Plasmaquelle, um die reaktiven Ionen zu erzeugen, während die Aschekammer eine Vakuumtechnik verwendet, um eine dünne Schicht aus passivierendem Material auf den Wafer abzuscheiden. Beide Kammern verwenden unabhängige Druckregel- und Temperaturprofilierungssysteme, um wiederholbare, zuverlässige Ergebnisse zu gewährleisten. Die Spülkammer ist für die schnelle Reinigung der Kammern zwischen Prozesszyklen ausgelegt, was schnellere Chargenverarbeitungszeiten ermöglicht. LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45 ist auch mit fortschrittlichen Sicherheitssystemen ausgestattet, einschließlich einer Selbsttesteinheit, die den Zustand der Maschine bewertet und Fehler repariert, bevor der Prozess beginnt. Das Schutzgehäuse der Maschine verfügt auch über Brand- und Gaserkennungssysteme, antistatischen Schutz, Lufttemperaturüberwachung und Notabschaltsysteme. LAM RESEARCH 2300 VERSYS KIYO45 bietet eine effiziente und zuverlässige Lösung für Ätz-/Ascheprozesse, die die Herstellung von Halbleiterbauelementen mit hohem Durchsatz ermöglicht.
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