Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys #9195904 zu verkaufen
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ID: 9195904
Reactive Ion Etch (RIE) system
Process: Metal etch
Integrated Circuit (IC)
Wires and electrical connections
Metal Hard Mask (MHM)
Typical mask
Flexible platform
Controlling repeatable profiles
Critical Dimensions (CD)
BEOL Metal etching
MHM Increase selectivity of low-dielectric insulating films
With BEOL integration
Controlling trench dimensions and roughness bottom line
Interfere with productivity and compensating power
Metal Hard Mask (MHM) (TiN)
High density aluminum line
Aluminum pad.
LAM RESEARCH 2300 Versys ist ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher für Hochdurchsatz-DRIE (Deep Reactive Ion Etch) und ICP (Inductively Coupled Plasma) -Ätzanwendungen. Dieser Ätzer verfügt über eine dielektrische Kammer und ein fortschrittliches Vorschubsteuerungssystem, was ihn zur perfekten Wahl für Produktionsumgebungen mit hohem Durchsatz macht. Das Vorschubsteuersystem von 2300 Versys sorgt für einen sehr gleichmäßigen Ätzprozess, der reibungslose und wiederholbare Produktionsprozesse ermöglicht. Es kommt auch mit hochauflösenden Sensoren, um kritische Ätzprozessparameter zu überwachen, so dass eine fein abgestimmte Steuerung während des gesamten Prozesses möglich ist. LAM RESEARCH 2300 Versys ist gut für DRIE-Anwendungen geeignet, da es in der Lage ist, hohe Ätzraten und glatte Seitenwandprofile zu erzielen, die ideal für das aggressive Ätzen von dielektrischen Materialien sind. Es zeichnet sich durch einen gleichmäßigen Gasstrom innerhalb der Ätzumgebung aus, der eine präzise Steuerung der Ätzrate sowie wiederholbare Ergebnisse ermöglicht. 2300 Versys bietet auch Hochleistungs-Hochfrequenz (RF) -Quellenoptionen, einschließlich Quellen für ICP-Ätzen. Dadurch können sowohl DRIE- als auch ICP-Prozesszyklen sequentiell durchgeführt werden, was die Prozessflexibilität und Effizienz erhöht. Darüber hinaus kann LAM RESEARCH 2300 Versys problemlos in große automatisierte Produktionsumgebungen integriert werden, was große Ätzanwendungen ermöglicht. Insgesamt ist 2300 Versys ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher mit hohem Durchsatz, der sowohl für ICP- als auch für DRIE-Anwendungen entwickelt wurde. Dieser Ätzer bietet präzise und wiederholbare Ätzprozesse aufgrund seines fortschrittlichen Vorschubsteuerungssystems, eines einheitlichen Gasflusses und Hochleistungs-HF-Quellenoptionen. Darüber hinaus kann es problemlos in große automatisierte Produktionsumgebungen integriert werden, was es zu einer idealen Wahl für Anwendungen mit Hochdurchsatz-Ätzen macht.
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