Gebraucht LAM RESEARCH 2300 Versys #9251504 zu verkaufen

LAM RESEARCH 2300 Versys ist eine High-End-Ätz- und Aschebearbeitungsanlage, die den strengen Anforderungen der heutigen komplexen IC-Fertigungsprozesse gerecht wird. 2300 Versys verfügt über einen neuen, führenden Prozessor, der einen höheren Durchsatz, eine höhere Prozessflexibilität und eine verbesserte Leistung ermöglicht. LAM RESEARCH 2300 Versys umfasst eine doppelseitige Suszeptor-Baugruppe mit einer verbesserten Hochvakuum-Turbo-Molekularpumpe, die eine schnelle Pumpzeit und eine gleichmäßige Expansion der Prozessgase auf großen Substraten ermöglicht. Es ist in der Lage, große Substrate mit einer maximalen Wafergröße von 300mm zu verarbeiten, was es zu einem idealen Werkzeug für die Serienproduktion macht. 2300 Versys bietet erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen mit seinem hochmodernen Automatisierungssystem, das eine einfache Benutzerprogrammierung, Rezepturbildung und Parametereinstellung ermöglicht. Die Einheit umfasst eine breite Palette von Prozessfähigkeiten, einschließlich Ätzen, RIE (Reactive Ion Etching), IBE (Ion Beam Etching), Nassätzen und Asche. Die Aschefähigkeit basiert auf der patentierten Mehrzonen-Thermooxid (MTO2) -Technologie, die ein sehr gleichmäßiges und wiederholbares Oxidwachstum auf großen Substraten ermöglicht. Neben der automatisierten Steuerungsmaschine bietet LAM RESEARCH 2300 Versys auch fortschrittliche In-situ-Überwachungsmöglichkeiten, darunter Multi-Gas-Detektoren, optische Emissionsspektroskopie und halbkugelförmige Reflektometrie. Seine Vor-Ort-Überwachungsfunktionen ermöglichen die genaue Messung der Prozessparameter und die Sicherstellung der Produktionsqualität. 2300 Versys bietet auch eine Reihe von Prozessverbesserungen, wie ein patentiertes Spaltfüllverfahren und verbesserte Tiefenätzprofile. Es ist entworfen, um die engsten dimensionalen Anforderungen zu erfüllen und ist kompatibel mit einer breiten Palette von Folie elektrisch beständig und Leitermaterialien. Das Werkzeug ist mit einem integrierten PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) -Prozess konfiguriert, der eine verbesserte Linienbreitenkontrolle ermöglicht. Um eine höhere Produktionsleistung und einen verbesserten Durchsatz zu ermöglichen, ist LAM RESEARCH 2300 Versys mit einer Cluster-Werkzeugkonfiguration erhältlich, die das Ätz- und Aschegut mit anderen Modulen wie CPVD (Chemical Plasma Vapor Deposition), ALD (Atomic Layer Deposition), chemischem Ätzen und konformaler Beschichtung kombiniert. Das Modell ist mit mehreren zusätzlichen Produktionsoptionen erhältlich, wie automatisierten Lade- und automatisierten Kassettenhandlern sowie optionaler Prozessmusterüberwachung und Full-Wafer-Reflexionsüberwachung. Zusammenfassend ist 2300 Versys eine Hochleistungs-Ätz- und Ascheausrüstung, die den hohen Produktions- und Prozessanforderungen der heutigen komplexen IC-Fertigung gerecht wird. Es bietet erweiterte Prozesssteuerungsfunktionen, erhöhten Durchsatz und einheitliche Stöchiometrie auf großen Substraten sowie eine breite Palette von Produktionsoptionen und Vor-Ort-Überwachungsoptionen, um die Prozess- und Produktionsqualität zu gewährleisten.