Gebraucht LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX #293619084 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 293619084
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2012
Poly etcher, 12"
(3) Load ports
SEMI Wafer
Cassette type: 25-Slots
Gas box type: Jetstream
2300 Platform
Chamber type: Versys Kiyo E Series
2300 Versys Kiyo E Series
PTK Chamber
Temperature controlled window
HP Crystal window
Coated ceramic injector
Standard bayonet style injector shield
Gas weldment with coated
Standard injector shield
Enhanced plasma screen
SRC Enhanced grounded liner
Top and side gas feed
TCP Source: Plasma 2000 W
Enhanced TCP Coil support:
Bias match: 1.5 kW HVBP
Electrostatic chuck: EPX ERMZ
ESC Facility plate: Pl with routing
ESC Hose kit: Low temperature
Wafer lift mechanism: Prime movers
Voltage control interface: 1200 V
High bias kit
Single piece QUARTZ edge ring
Turbo pump, 12"
OES2 Endpoint detection
Standard chamber viewport window
Heated foreline clamp cover
Chamber isolation valve: Barrier seal door
Vacuum valve: Viton
Lower isolation valve: Valqua
Chamber manometer
UPC Enhanced
Water control: Passive RF PCW control
PCW Hoses: Chemical resistant
Exhaust duct: Reduced profile
Standard service cover
Pump to TCU, 50 ft
TCU to PM, 100 ft
Interconnect: Pump to PM, 100 ft
TCU to RPDB, 25 ft
Pump to RPDB, 25 ft
Regulated inlet gas panel
Gas system:
Jetstream
Mounting location: Transport module
Window door
Lock-out tag-out manual valve
FIB Facilitization
Facility box:
Top gas connection
Enhanced containment
Regulated with filter regulation
Nickel filter
SST Filter
Future PM: 4 Positions
Jetstream gases of 2302 Kiyo E Series:
Tuning gas
Heated lines position 1 and 2
Gas no / Gas / MFC Size / MFC Model
1 / SiCL4 / 100 SCCM / STEC Z719
2 / CL2 / 500 SCCM / STEC D219
3 / HBr / 500 SCCM / STEC D219
4 / CF4 / 400 SCCM / STEC D219
5 / BCl3 / 200 SCCM / MFC Z719
6 / He / 500 SCCM / STEC D219
7 / CH2F2 / 200 SCCM / STEC D219
8 / Ar / 1000 SCCM / STEC D219
9 / 30%HE/O2 / 50 SCCM / STEC D219
10 / NF3 / 1000 SCCM / STEC D219
11 / N2 / 250 SCCM / STEC D219
12 / SO2 / 200 SCCM / MFC D219
13 / SF6 / 200 SCCM / STEC D219
14 / CHF3 / 200 SCCM / MFC D219
15 / O2 / 500 SCCM / STEC D219
17 / C4F6 / 200 SCCM / MFC D219
ATM:
Front end load port: 3 FOUP BROOKS
Cassette ID: Hermos carrier ID
Factory automation: OHT PIO Sensor
Input buffer station: 25-Slot
CTC Computer storage: Hard Disk Drive (HDD) mirrored
VTM Load lock A and B: Standard
RPDB Subpanel
R-O-G-B Signal tower
Pre-facilities:
PM Peripherals backing pumps: ESR100WN
RPDB Backing pump CB Size: 30 A
TCU CB Size: 30A
TCU YR-8020
2300 Versys Kiyo E Series process module (PM1, PM2, PM3 and PM4): SiCl4, Cl2, HBr, CF4, He, Ar, CH2F2, 30%He/O2, NF3, N2, SO2, SF6, CHF3, O2
Does not include:
Dry pumps
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2012 vintage.
LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX ist ein Hochleistungs-Ätzer/Ascher für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ist ein robustes Werkzeug zum Ätzen und Aschen einer Vielzahl von Materialien, einschließlich Silizium, Siliziumdioxid, Aluminium und Wolfram, bei Temperaturen bis zu 1000 Grad Celsius. 2300e4 Kiyo EX arbeitet in zwei primären Konfigurationen: HF-Impedanzanpassung und vorkonfigurierte Etch/Asche. Im HF-Impedanzanpassungsmodus kann es sechs Substrattypen verarbeiten und bietet eine ertragsstarke, kostengünstige Verarbeitung. Es wird mit einem Hochfrequenzgenerator geliefert, der hochgenaue und wiederholbare Ergebnisse liefert. Es verfügt außerdem über eine integrierte Druckeinrichtung, die Prozessgase auf optimalen Druckbedingungen hält. Im vorkonfigurierten Ätz-/Aschemodus verfügt LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX über mehrere erweiterte Funktionen, wie eine erweiterte Ionenstrahloptik, Mehrkammer-Plasmasteuerungssysteme und ein Siliziumkarbidkammertor. Die fortschrittliche Ionenstrahloptik verbessert die Prozesskontrolle und Profilgenauigkeit, während die Mehrkammer-Plasmasteuerungssysteme Flexibilität für Ätz- und Ascherezepte bieten. Darüber hinaus ermöglicht das Siliziumkarbidkammer-Gate dem Benutzer, Plasmareaktionen zu verwalten und Schmutz zu reduzieren. Neben den Ätz-/Aschefähigkeiten bietet 2300e4 Kiyo EX auch ein hochgenaues Profilmessgerät. Dieses System ermöglicht es Benutzern, das Ätz-/Ascheprofil mit hoher Auflösung zu überwachen, so dass sie einen gleichbleibend hochwertigen Prozess gewährleisten können. Um seine Ätz-/Aschefähigkeit weiter zu verbessern, enthält LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX einen Temperaturregler, der eine präzise Temperaturregelung sowohl für die Abscheidung als auch für die Ätzung ermöglicht. Es verfügt auch über digitale Datenaufzeichnungs- und Speicherfunktionen, einen programmierbaren Controller zur Rezeptoptimierung und einen Auto-Diagnose-Prüfstand für die Wartung von Einheiten. 2300e4 Kiyo EX ist ein zuverlässiger und effizienter Ätzer/Ascher für die Herstellung hochwertiger Halbleiterbauelemente. Es bietet fortschrittliche Ionenstrahloptiken und Temperaturkontrollfunktionen, eine hochgenaue Profilmessmaschine, digitale Datenaufzeichnungs- und Speicherfunktionen, einen programmierbaren Controller zur Rezeptoptimierung und einen Auto-Diagnose-Prüfstand für die Werkzeugwartung. Mit seinen robusten Eigenschaften und seiner Benutzerfreundlichkeit ist LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX eine gute Wahl für jede Produktionsstätte für Halbleiterbauelemente.
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