Gebraucht LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EXP Poly #293809868 zu verkaufen
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ID: 293809868
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2017
Etcher, 12"
3-FOUP TDK
Light curtain with OHT/RGV
25-Slot aux buffer (corr res)
Conditioning station (7 wafer)
User interface: Side and front monitor
UPS Circuitry
Earth leakage breaker
Cable: TM-Subpanel, 100 feet
Signal light tower, r-o-g-b slim line
VTM Pump: EDWARDS (EPX)
Light curtain
APCS
SVID and Facility interface board
VTM Breakout board/cover
ATM Robot removal kit
Light tower buzzer
NSR10702, N2 Flow monitoring on UPC
NSR101435,TM UPS Bypass kit with Maratho
VTM Robot Lift
Ionizer kit
Robot CDM
STRIP45 and OES Endpoint option
Stainless steel with 5/8-1/2 reducer
2700 l/S BOCE Turbo pump
Gas feed: Top and side
Bias match: 1.5kW HVBP Sync
NSR100999, Chamber exhaust duct
NSR101420, FWD Build Kiyo EX for 173 LTC
NSR101836, Kiyo EXP Chamber process manom
NSR102151, NSR for Kiyo EXP
PM Maint: Quick clean kit
Gas box:
(3) 9-Gas configurations (jetstream)
(21) Jetstream gas line
(9) Heated gas line
AFVi
JS Gas box
(3) NSR100802, GL14 C4F8(100), TG1C4F6(100H)
Facility interface box (system)
(17) Facility interface boxes (per line)
(2) Future PM Containments
2017 vintage.
LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EXP Poly ist eine hochentwickelte Ätz-/Aschermaschine für die präzise und effiziente Verarbeitung von Halbleitermaterialien in der Mikroelektronikindustrie. Dieses hochmoderne Werkzeug ist Teil der renommierten 2300-Serie von LAM RESEARCH, die für ihre hohe Leistung, Zuverlässigkeit und Vielseitigkeit in Halbleiterherstellungsprozessen bekannt ist. 2300e5 KIYO EXP Poly umfasst eine Reihe innovativer Technologien und Funktionen, die eine überlegene Kontrolle und Einheitlichkeit bei Ätz- und Ascheprozessen ermöglichen. Eines seiner wichtigsten Highlights ist die induktiv gekoppelte Plasmaquelle KIYO (ICP), die hochdichtes Plasma mit außergewöhnlicher Prozessstabilität und Wiederholbarkeit liefert. Diese fortschrittliche Plasmaquelle ist entscheidend für die Erzielung präziser Ätzprofile und eine gleichmäßige Materialabtragung über die Waferoberfläche. Das System ist mit einer erweiterten Prozessfähigkeit zum Ätzen und Aschen verschiedener Materialien ausgestattet, einschließlich polymerer Folien, die üblicherweise in der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Die verbesserte Prozessflexibilität ermöglicht die Optimierung einer Vielzahl von Ätzchemikalien und Rezepturparametern, um den spezifischen Anforderungen verschiedener Gerätedesigns und Materialien gerecht zu werden. LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EXP Poly verfügt über ein hochgradig konfigurierbares Kammerdesign mit mehreren Wafer-Handhabungsoptionen, die eine nahtlose Integration in verschiedene Produktionsumgebungen und Verarbeitungsabläufe ermöglichen. Das Gerät unterstützt sowohl Einzelwafer- als auch Batch-Verarbeitungsmodi und bietet den Betreibern die Flexibilität, den am besten geeigneten Ansatz basierend auf Durchsatz und Prozessanforderungen zu wählen. In Bezug auf Prozesssteuerung und -überwachung ist 2300e5 KIYO EXP Poly mit erweiterten Endpunkterkennungsfunktionen, Echtzeit-Prozessüberwachungstools und Rezepturabstimmungsfunktionen ausgestattet. Diese Funktionen ermöglichen es den Betreibern, den Fortschritt von Ätz-/Ascheprozessen in Echtzeit zu überwachen, Anpassungen von Prozessparametern on-the-fly vorzunehmen und konsistente und zuverlässige Ergebnisse von Run to Run zu gewährleisten. Darüber hinaus ist die Maschine mit einem Schwerpunkt auf Produktivität und Kosteneffizienz konzipiert und umfasst Funktionen wie schnelle Kammerreinigungsprotokolle, effiziente Gaszufuhrsysteme und automatische Kalibriermechanismen. Diese Verbesserungen tragen zur Minimierung von Ausfallzeiten, zur Senkung der Wartungskosten und zur Verbesserung der gesamten Werkzeugauslastung in Halbleiterherstellungseinrichtungen bei. Zusammenfassend ist LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EXP Poly ein hochmodernes Ätzer/Ascher-Tool, das fortschrittliche Plasmabearbeitungstechnologien, flexible Kammerkonfigurationen und robuste Prozesskontrollfunktionen kombiniert, um hochleistungsfähige und zuverlässige Verarbeitung von polymeren Materialien in der Halbleiterherstellung zu ermöglichen. Mit seiner überlegenen Prozesssteuerung, seiner ausgezeichneten Gleichmäßigkeit und seinen vielseitigen Fähigkeiten ist dieses Tool ein wertvolles Gut für Halbleiterunternehmen, die qualitativ hochwertige Fertigungsergebnisse erzielen und die Entwicklung von Geräten der nächsten Generation beschleunigen möchten.
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