Gebraucht LAM RESEARCH 2300e6 Kiyo EX #293631692 zu verkaufen

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ID: 293631692
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2016
Polysilicon etcher, 12" Does not include Hard Disk Drive (HDD) 2016 vintage.
LAM RESEARCH 2300e6 Kiyo EX ist eine fortschrittliche Ätzer/Ascher-Ausrüstung für fortgeschrittenes Kupfer für Metall-Aluminiumoxid-Muster für die Herstellbarkeit gebaut. Dieses System wurde mit einer mechanischen Ausrichteinheit entwickelt, die eine fortschrittliche Verarbeitung mit erweiterten Musterfunktionen ermöglicht. Es bietet eine breite Palette von sicheren Prozessoptionen wie chemische Passivierung, Metallätzen und fortschrittliche Reinigung. Die Maschine umfasst auch mehrere fortschrittliche Prozesssteuerungswerkzeuge wie variable Substratvorspannungssteuerung und erweiterte HF-Steuerung. Es verwendet einen Hochleistungs-HF-Generator, der einen niedrigen bis zu mehreren Dutzend kHz abstimmbaren Bereich und einen breiten Sweep-Frequenzbereich bietet. Es verfügt über vier unabhängige Gasquellen, die es dem Benutzer ermöglichen, aus einer Vielzahl von Abscheidungsgasen zu wählen. Darüber hinaus verfügt es über vier zweikettige HF-Spulen, einen PID-Temperatursensor und eine RF-Amplituden- und Leistungsregelung. Das Ätzer/Ascher-Tool verfügt über eine 8-Zoll-Elektrode für höhere Auflösung und Gleichmäßigkeit, mit einer optionalen 10-Zoll-9-Zoll-und 11-Zoll-Option. Es verfügt über bis zu drei unabhängige Gasquellen, eine mit einem Aluminiumkörper und fortschrittliche Positionierung Asset für mehr Zuverlässigkeit entworfen. Darüber hinaus ist das Gerät auch mit Druck- und Temperatursensoren und einem Selbstmonitor zur Unterstützung des Reinraumbetriebs ausgestattet. Es verfügt über eine Flüssigkeitsabgabeeinheit, eine Vakuumkammerreinigungseinheit und ein Kühlmittelanalysemodell. 2300e6 Kiyo EX Ausrüstung ist entworfen, um für die fortschrittlichste Anwendungsentwicklung in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Seine Eigenschaften umfassen niedrigen Stromverbrauch, High-End-Substrathalter und modernes HF-System. Die Einheit ermöglicht es Benutzern, fortschrittliche Strukturen effizient und genau zu strukturieren. Seine breite Palette von Prozessoptionen und unabhängige Gasquellen machen es zu einer großen Wahl für fortgeschrittene Metall-Aluminiumoxid-Musteranwendungen.
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