Gebraucht LAM RESEARCH 300NX #9257375 zu verkaufen
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LAM RESEARCH 300NX ist ein Ätzer und Ascher für eine Vielzahl von Halbleiterherstellungsprozessen. 300NX ist kompatibel mit einer Reihe von Flüssigkeits-, Schlamm- und Gaschemie und ist in der Lage, Plasmaätzen und Plasmaveraschen, so dass es das perfekte Werkzeug für kleine bis mittlere Produktion. Es ist für die Handhabung komplexer Wafergeometrien ausgelegt und hat eine Prozesskammerabmessung von 18 „x18“ x24 „mit einer Behandlungsfläche von 16“. LAM RESEARCH 300NX verfügt über ein einzigartiges Duschkopfdesign, das eine rotierende Prallplatte verwendet, um die Kaskadierung von Chemikalien für Gleichmäßigkeit über alle Waferoberflächen effektiv zu verwalten. Zusätzlich weist er einen vertikal einstellbaren Sub-Umgebungs-Kühlring zur Reduzierung der Wafertemperatur auf, was die Prozeßwiederholbarkeit verbessert. Die Geräte können vollständig automatisiert und ferngesteuert werden, und alle Rezepte und Parameter können für einfachen Rückruf und Abruf gespeichert werden. 300NX ist auch mit einem hochmodernen Beobachtungssystem und einer benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, um den Ätzer ständig zu überwachen, zu optimieren und die Wartung durchzuführen. Für maximale Produktivität verfügt LAM RESEARCH 300NX über eine CenterTrack Wafer Handing Unit, die den Waferdurchsatz erhöhen und Zykluszeiten reduzieren soll. Es verfügt außerdem über eine 3-stufige Prozesstrennwand-Maschine, mit der bis zu drei Geräteprozesse mit demselben Wafer durchgeführt werden können. Darüber hinaus bietet der Autocontroller eine Vielzahl von Prozesssteuerungstools, wie Teilprozessregler und Zyklusregler, die zur Feinabstimmung der Prozessoptimierung eingesetzt werden können. 300NX hat eine Grundfläche von 61 "x198" x103 "und verfügt über ein Umweltkontrollwerkzeug, das eine stabile Atmosphäre innerhalb der Prozesskammer gewährleistet. Es ist mit einem Lastschloss ausgestattet, um Verschmutzungen zu verhindern und ist RoHS-konform. Insgesamt ist LAM RESEARCH 300NX ein hochentwickelter Ätzer und Ascher für komplexe Halbleiterherstellungsprozesse.
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