Gebraucht LAM RESEARCH 4420 #9040757 zu verkaufen

Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
4420
ID: 9040757
Wafergröße: 6"
Poly etchers, 6".
LAM RESEARCH 4420 ist ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher für den Einsatz in rauen Produktions- und Entwicklungsumgebungen. 4420 verfügt über eine voll integrierte Vakuum- und Plasmasteuerung, die es ermöglicht, eine breite Palette von Materialien und Substraten zu verarbeiten. LAM RESEARCH 4420 nutzt eine modulare Architektur mit der Fähigkeit, Wafer-Ladetechnologien zu ändern, um die Betriebskosten zu senken und somit eine flexible, skalierbare Plattform anzubieten. 4420 Etcher/Asher hat eine beeindruckende Kapazität von bis zu 67 Wafern pro Lauf. Es bietet auch Ladekapazitäten bis zu 25 Wafer/Waferboot, was einen maximalen Produktionsdurchsatz ermöglicht. Einstellbare Prozessparameter, wie Plasmaparameter, ermöglichen es Benutzern, den Prozess auf die zu ätzenden oder zu aschenden Materialien abzustimmen. Es bietet auch ein erweitertes Diagnosesteuergerät, um alle Betriebsparameter zu analysieren und zu überwachen. LAM RESEARCH 4420 Etcher/Asher verwendet ein fortschrittliches Kühlsystem, um die Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Prozessergebnisse sicherzustellen. Es verwendet Hochdruckkühlung und einen regelbaren Flüssigkeits-Gas-Wärmetauscher, um Temperatureffekte auf das Produkt zu steuern. Eine digitale Ablesung der Kühltemperatur wird zur Sicherstellung eines ordnungsgemäßen Prozessbetriebs zur Verfügung gestellt, um sicherzustellen, dass der Prozess wiederholbar und zuverlässig ist. 4420 ist voll kompatibel mit industriellen und Laboranwendungen. Seine robuste Bauweise sorgt für Zuverlässigkeit und geringe Wartungskosten. Es ist auch für anspruchsvolle Umgebungsbedingungen wie Übertemperatur, Vibration und Staub gebaut. Es gibt eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, wie eine automatische Abschalteinheit, die Maschinen- und/oder Produktschäden verhindern soll. Insgesamt ist LAM RESEARCH 4420 ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der für den Einsatz in Produktions- und Entwicklungsumgebungen entwickelt wurde. Sein hochpräzises Prozesssteuerungs- und Kühlwerkzeug sorgt für einen zuverlässigen und wiederholbaren Betrieb. Es wurde für anspruchsvolle Umweltbedingungen entwickelt und bietet eine flexible, skalierbare Plattform. Es ist ideal für diejenigen, die nach einer anspruchsvollen und zuverlässigen Ätz- und Aschelösung suchen.
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