Gebraucht LAM RESEARCH 4420 #9145514 zu verkaufen

LAM RESEARCH 4420
Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
4420
ID: 9145514
Wafergröße: 8"
Poly silicon etchers, 8".
LAM RESEARCH 4420 Asher/Etcher ist eine leistungsstarke, leistungsfähige Produktionsätzausrüstung, die entwickelt wurde, um verschiedene Probenmaterialien schnell und genau zu verarbeiten. Dieses System verwendet ein fortschrittliches Plasmaätzverfahren, um präzise Schaltungsmuster auf einer Reihe von Substraten zu erstellen und gleichzeitig zuverlässige Leistung und hohe Abscheidungsraten zu liefern. 4420 ist mit einer doppelten src Vorrichtungen und Deckel ausgestattet, so dass Benutzer schnell zwischen mehreren Substraten während des Betriebs wechseln. Diese Ätzeinheit ist mit einer Reihe intelligenter Funktionen ausgestattet, um eine optimale Ätzgenauigkeit und -qualität zu gewährleisten, wie z. B. eine motorisierte Waferbewegung, eine hydrodynamische Hubstufe und eine automatisierte Wetterfähigkeit. Darüber hinaus bietet LAM RESEARCH 4420 Etcher/Etch-Maschine Anwendern eine breite Palette von Funktionen, um ihnen die Präzision, Kontrolle und Wiederholbarkeit zu geben, die sie für die schnelle Herstellung von Komponenten benötigen. 4420 Etcher/Asher nutzt eine leistungsstarke PlasmaJet-Technologie für sauberes, präzises Ätzen bei hohem Durchsatz. Diese Technologie kombiniert einen hocheffizienten Ätzadapter mit einer neuen, hochenergetischen Plasmatechnologie, um Anwendern das Beste aus beiden Welten zu bieten - hohe Abscheidungsraten und geringe Materialschäden. LAM RESEARCH 4420 wurde entwickelt, um das Beste aus seiner neuen Plasmatechnologie herauszuholen. Die Plasmaquelle kann auf Einstellungen abgestimmt werden, die unterschiedliche Ätzprozessergebnisse ergeben und zur Vielseitigkeit von 4420 beitragen. Die integrierte Hydrodynamic Lift Stage von LAM RESEARCH 4420 Gerät ist entworfen, um Benutzern mehr Kontrolle über die Kammer Boden Wand Ätzzeit zu geben. Die anpassungsfähige Hydrodynamic Lift Stage arbeitet mit einem drehbaren Raddesign und ermöglicht es Benutzern, die Ätzzeit an die Bedürfnisse ihrer spezifischen Probe anzupassen. Darüber hinaus wurde 4420 mit einer Vielzahl automatisierter Wetterboardfähigkeiten entworfen, wodurch Benutzer die volle Kontrolle über die Druckeinstellungen beim Ätzen erhalten. Darüber hinaus ist das Tool LAM RESEARCH 4420 auch mit fortschrittlicher Software ausgestattet, die zur Ätzoptimierung sowie zur Prozesskonsistenzverfolgung verwendet werden kann. Die intuitive Benutzeroberfläche dieser Software ermöglicht es Benutzern, schnell Drilldown in die Einstellungen des Ätzprozesses und Änderungen bei Bedarf vorzunehmen. Mit Hilfe dieser Tools können Benutzer Probleme, die während des Prozessbetriebs auftreten könnten, schnell analysieren und beheben. Insgesamt ist 4420 Etcher/Asher eine leistungsstarke, ertragsstarke Ätzanlage, die Anwendern die Geschwindigkeit, Präzision und Genauigkeit bietet, die sie für eine schnelle Herstellung benötigen. Mit seiner fortschrittlichen PlasmaJet-Technologie und der vielseitigen hydrodynamischen Hubstufe ist LAM RESEARCH 4420 eine ideale Wahl für jeden Produktionsätzjob.
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