Gebraucht LAM RESEARCH 4420 #9233411 zu verkaufen

LAM RESEARCH 4420 ist eine Ätzmaschine, die für effiziente und produktive Plasmaätz- und Trockenascheprozesse entwickelt wurde. Es ist in der Lage, bis zu vier Prozessmodule zu unterstützen und bietet eine flexible und vielseitige Konfiguration für die raue Umgebung der Halbleiterproduktion. 4420 bietet analoge und digitale Plasmaquellen mit erhöhter Prozesskontrolle und disziplinierter Variabilität in Anwendungen. LAM RESEARCH 4420 ist auch für hochdichte Plasmaprozesse sowie SiOF-Ätz- und Nachaschereinigung modifiziert. 4420 verfügt über ein energieeffizientes Design, das den Energieverbrauch und die Betriebskosten senkt. Es verfügt über großflächige Prozessmodule, die höhere Prozessdurchsätze als vergleichbare Systeme ermöglichen. Es verfügt auch über ein intelligentes Subsystem zur automatischen Optimierung von Plasmaparametern, bietet Stabilität und Gleichmäßigkeit bei Ätzergebnissen, unabhängig von der Rezepturauswahl. LAM RESEARCH 4420 bietet eine breite Palette von Prozessfähigkeiten und komplette Lösungsflexibilität, was zu niedrigeren Betriebskosten führt. Es kann eine Vielzahl von Substraten und Prozessen aufnehmen, wie Einzelwafer oder Batch-Mode-Ätzen, Mesa-Ätzen, mehrstufiges Ätzen, Streifenätzen, Passivieren, Schablonenabheben und Nachaschereinigung. Mit Präzisionserkennung und Kommandierung können 4420 Hochgeschwindigkeitsätzen in Prozessen wie AMS, IPE, RIE, Ozon und UV oder UVPlus HiP-CVD bereitstellen. Im Vergleich zu früheren Systemen bietet LAM RESEARCH 4420 verbesserte Modularitäts- und Skalierbarkeitsfunktionen, was die Komplexität erheblich reduziert und kostenintensive Kontrollen eliminiert. Das integrierte Steuerungssystem bietet ein verbessertes Prozessmanagement, das die Implementierbarkeit und Wiederholbarkeit komplexer Rezepturen ermöglicht. In Bezug auf Sicherheit und Umweltleistung, 4420 ist entworfen, um die strengsten Anforderungen zu erfüllen. Es verfügt über eine Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich mehrerer Abgasüberwachungspunkte und einer Brandschutzeinheit. Darüber hinaus ist die Maschine so konzipiert, dass Wartung und Ausfallzeiten minimiert werden, und sie entspricht den Sicherheitsrichtlinien von SEMI S2 und S8. Letztlich bietet LAM RESEARCH 4420 flexibles und zuverlässiges Ätzen und Aschen für die heutigen harten Herausforderungen in der Halbleiterproduktion. Es bietet überlegene Prozessleistung und verbesserte Produktivität und ist eine zuverlässige Wahl für bestehende und neue Anwendungen.