Gebraucht LAM RESEARCH 4420i #9043961 zu verkaufen

LAM RESEARCH 4420i Asher ist eine vielseitige Ätzausrüstung für komplexe Wafermuster. Es ist eine Plattform, die mehrere Ätzchemien und Ätzerkonfigurationen ersetzen kann und eine Vielzahl von Anwendungen ermöglicht. Es verfügt über eine lange Kammer, die größere Wafer mit komplizierteren Mustern sowie eine breite Palette von Maskengrößen ermöglicht. Das hochmoderne kombinierte Gasfördersystem 4420i und die einheitliche HF-Leistungsanpassung gewährleisten eine präzise und wiederholbare Prozesssteuerung, während seine unabhängige Gasmischfähigkeit eine besonders hohe Prozessflexibilität ermöglicht. LAM RESEARCH 4420i ist in der Lage, sowohl nasse als auch trockene Ätzprozesse durchzuführen. Unterstützt werden verschiedenste Nassätzverfahren mit optionalem Zubehör wie Quarz- und Keramikträger für ein noch breiteres Spektrum an Ätzanwendungen. Mit seinem hochmodernen RF-Leistungsanpassungsprotokoll ermöglicht 4420i eine präzise Wiederholbarkeit und Steuerung der Ätztiefe. LAM RESEARCH 4420i ist mit einem Hochgeschwindigkeits-Lastschloss ausgestattet, das ein schnelles Be- und Entladen von Wafern in einer sicheren und inerten Atmosphäre ermöglicht. Eine fortschrittliche kathodengekoppelte Kristallquelle sorgt dafür, dass die Ätzrate über den gesamten Wafer unglaublich konstant ist. Darüber hinaus ist 4420i in der Lage, sowohl Hoch- als auch Tieftemperaturprozesse zu unterstützen und Temperaturen bis zu 550 ° C für Anwendungen wie die Polymerisation von Acroleinpaste zu erreichen. LAM RESEARCH 4420i wird von der exklusiven FABIS-P-Einheit von LAM RESEARCH angetrieben und ermöglicht eine sehr präzise Prozesssteuerung. Durch den automatischen Abgleich von Prozessparametern wie Leistung, Temperatur, Gasdruck und Prozesszeit stellt FABIS-P sicher, dass Prozesse von einem Wafer zum nächsten möglichst konsistent sind. Die Maschine kann auch auf spezifische Prozessanforderungen abgestimmt werden, was zu hochpräzisen Ätzprozessen führt. Um einen sehr zuverlässigen Prozess zu gewährleisten, bietet 4420i weitere Merkmale wie Quarzglockentrennung, unabhängige Heizzonen, Prozessgasmischung und flexible Wafermusterbelastung. Seine lange Quarzkammer sorgt dafür, dass jeder Zentimeter der Ätzfläche den gleichen Ätzparametern ausgesetzt ist, während seine Lastverriegelungskammer das Verschmutzungsrisiko reduziert, so dass mehrere Waferprogramme in einem einzigen Zyklus laufen können und die Wafer-zu-Wafer-Variabilität reduziert wird. Schließlich garantieren die hochpräzisen HF-Matching-Systeme und das Power Ramping Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit. Alle diese Funktionen kombinieren, um LAM RESEARCH 4420i zu einem sehr vielseitigen und zuverlässigen Ätzwerkzeug zu machen. Es eignet sich für eine Vielzahl von Ätzanwendungen, wie die Herstellung von Halbleiterbauelementen, die Herstellung von Photomasken, die Herstellung von MEMS und Bio-MEMS und andere spezialgeätzte Anwendungen.