Gebraucht LAM RESEARCH 4520 #9029728 zu verkaufen

LAM RESEARCH 4520 Asher/Etcher ist ein fortschrittliches, präzises Vakuum-Wafer-Bearbeitungswerkzeug, das bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen elektronischen Geräten verwendet wird. Das Gerät ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien wie Poly-Silizium, Polyimid, Chrom, Low-K-Dielektrikum und dotierte Oxidfolien herzustellen. 4520 nutzt ein Ätzsystem mit einem sehr schnellen und präzisen Scantank gekoppelt mit einer Bewegungssteuerung, die präzise, wiederholbare Prozesse ermöglicht. Der Abtastbehälter enthält Hochgeschwindigkeits-Inertgas, das eine gute Wiederholbarkeit, Gleichmäßigkeit und Durchsatz garantiert. Das LAM verfügt auch über eine zweistufige Plasmaquelle, die schnelles und robustes Ätzen mit niedrig temperaturinduziertem Sputtern, tiefem anisotropem Ätzen und hervorragenden Desmear-Qualitäten liefert. Die Plasmaquelle ist hochkompakt und hat eine variable Leistung für konsistente und wiederholbare Prozesse. LAM RESEARCH 4520 verfügt auch über eine einstellbare Substrat-Temperatur-Kontrollmaschine, die Präzisions-Thermomanagement während des gesamten Wafer-Bearbeitungszyklus bietet. Eine integrierte Tunneldusche ermöglicht eine schnelle Bearbeitungszeit bei gleichzeitig effizienter Kühlung und Temperaturregelung. Das Tool bietet auch eine Reihe von optionalen Prozessverbesserungsmöglichkeiten wie Inertgasdrucküberwachung und Plasmacharakterisierung und Ätzpotentialüberwachung. 4520 hat auch eine Software zur Überwachung der Performance der Anlage eingebaut und bietet Echtzeit-Feedback der verschiedenen Prozessparameter. Dadurch kann der Prozess ständig überwacht, angepasst und optimiert werden, um Erträge und Qualität des Endprodukts zu maximieren. Zusätzlich liefert die Software Rezepte für die verschiedenen Ätzprozesse, die ideale Voraussetzungen für jeden einzelnen durchzuführenden Prozess bieten. LAM RESEARCH 4520 ist ein Präzisionsätz- und -veraschungswerkzeug, das für die Herstellung von fortschrittlichen integrierten Schaltkreisen und anderen mikroelektronischen Geräten optimiert wurde. Das Modell ist für die schnelle und genaue Verarbeitung verschiedener Materialien konzipiert und verwendet eine zweistufige Plasmaquelle, um sowohl schnelles als auch tiefes Ätzen und ausgezeichnete Desmear-Leistung zu bieten. Die einstellbare Substrat-Temperaturregelung und die integrierte Tunneldusche bieten eine ideale Umgebung für bis zu 6-Zoll-Wafer. Eine Vielzahl von prozesssteigernden Optionen bieten einen wiederholbaren, zuverlässigen und hocheffizienten Prozess. Die integrierte Software bietet Echtzeit-Feedback und Prozessoptimierung, um Ertrag und Qualität des Endprodukts zu gewährleisten.