Gebraucht LAM RESEARCH 4520 #9386644 zu verkaufen

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Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
4520
ID: 9386644
Wafergröße: 8"
Oxide etcher, 8" Bottom clamp type.
LAM RESEARCH 4520 ist eine fortschrittliche Ätz- und Aschermaschine, die auf die effizienteste Weise präzise, volumenstarke Ergebnisse liefert. Das System ist mit einer leistungsfähigen Plasmaquelle ausgestattet, die hilft, Materialien schnell ohne Kompromisse in der Genauigkeit zu verarbeiten. Das Gerät wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Materialien zu handhaben, einschließlich Hartmetall und Nichtmetall, was die Vielseitigkeit bietet, die von einer modernen Ätz- und Aschemaschine erwartet wird. Die Konstruktionen und Werkzeuge des Werkzeugs sind in der Lage, präzise Ergebnisse unabhängig vom Material zu erzielen und der Einsatz fortschrittlicher Bildgebungstechniken, einschließlich kurzer Wellenlänge und tiefer ultravioletter Photolithographie, ermöglicht eine präzise Strukturierung. Der LAM 4520 beinhaltet eine automatische Prozesssteuerung und eine fortschrittliche Mustererkennungssoftware, die die Bearbeitung selbst komplexester Designs mit Leichtigkeit ermöglicht. Darüber hinaus ist es mit einer Remote-Prozesssteuerung ausgestattet, die Prozessanpassungen in Echtzeit ermöglicht, ohne den Gesamtbetrieb zu unterbrechen. Das macht das Modell hochwirksam und effizient und sorgt dafür, dass auch die kompliziertesten Konstruktionen präzise bearbeitet werden können. Die Ausrüstung ist so gebaut, dass sie außergewöhnliche Erträge und Qualität liefert. Sein erstklassiges Vakuumsystem und eine hocheffektive Ionensputterquelle - die in der Lage ist, Substrate mit erheblich höheren Geschwindigkeiten zu verarbeiten - sorgen für schnelle Prozesszeiten und überlegene Leistung. Darüber hinaus ermöglicht das fortschrittliche lithographieverbessernde Werkzeug eine bessere Präzision und liefert hervorragende Ergebnisse. LAM RESEARCH 4520 ist eine effiziente, leistungsstarke und hochzuverlässige Ätz- und Ascheeinheit, die in der Lage ist, überlegene Leistung in Anwendungen mit hohem Volumen zu liefern. Seine breite Palette an Anpassungsoptionen, erweiterte Funktionen und verbesserte Prozesskontrolle macht es zu einer idealen Wahl für industrielle und akademische Forschungslabore.
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