Gebraucht LAM RESEARCH 4520i #9196534 zu verkaufen
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ID: 9196534
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2004
Etcher, 6"
Verity enhanced endpoint detection
LAM RF Generator rack:
ISO AE RFG 1250 RF generator
Chamber process kit parts:
Attachment ring
Upper and lower baffles
Electrode clamp ring
Filler ring lower clamp
Focus ring edge lower
Bottom wafer clamp
Single wafer
Flat notch orientation
Integrated isotropic-anisotropic etching
Wafer temperature control:
Reduced loading effects
Variable gap spacing: Wide process flexibility
Parallel plate reactor: Proven etch technology
Inductive RF auto tuning: Fast accurate RF tuning for precise control
Thermal oxide etch rate: ≥ 4500 A/min
BPSG Etch rate: >7500 A/min
TEOS Etch rate: >5000 A/min
Uniformity: +/- 10% 3
Selectivity BPSG/TEOS to poly: >15:1
Particles: 0.3μm size
Does not include dry pumps or chiller
2004 vintage.
LAM RESEARCH 4520i ist ein vollautomatischer Einkammer-Plasma-Affinitäts-Gasätzer/-ascher, der entwickelt wurde, um die genauesten verfügbaren Ätz- und Ascheprozesse zu liefern. Das Gerät ist in der Lage, mehrere Technologien wie reaktives Ionenätzen (RIE), induktiv gekoppeltes Plasma (ICP), plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) und Magnetronsputtern zu unterstützen. Diese Art von Ätz- und Ascheverfahren eignet sich für die Verwendung in einer Vielzahl von Anwendungen, einschließlich der Herstellung von Halbleiterbauelementen, Festplatten, Flachbildschirmen und anderen fortschrittlichen Substraten. 4520i ist mit einer flexiblen Reihe von Quellfunktionen für jede Kombination von Ätzen oder Aschen ausgestattet. Es enthält eine einzigartige kryogene kapazitiv gekoppelte Quelle zusammen mit seiner traditionellen ICP-Quelle für benutzerdefinierte Anwendungen. Die Fähigkeit von LAM RESEARCH 4520i, extrem präzise Ergebnisse zu erzielen, macht es für hohe Dichte, ultrafeine Linienätz- und Aschebedürfnisse geeignet. Darüber hinaus ist das Prozessfenster groß genug, um eine Vielzahl von Gasen und Anwendungsanwendungen aufzunehmen. Darüber hinaus verfügt 4520i über einen In-situ-Gasreiniger, um Prozesskontaminationen zu reduzieren und die Produktivität zu verbessern. Es verwendet auch Onboard-Sensoren, um Prozesskonsistenz und ein hocheffizientes Auto-Load-System zu gewährleisten, um die Verarbeitungszeit zu reduzieren. Der Controller des Geräts ist für einen schnellen und präzisen Betrieb in einer Vielzahl von Umgebungen ausgelegt. LAM RESEARCH 4520i ist sehr adaptiv und bietet eine breite Palette von Parametern, die geändert werden müssen, um den Anforderungen jeder Anwendung gerecht zu werden. Es verwendet eine Vielzahl von Materialien und ist in der Lage, Nieder- und Hochdruckätzen, zusammen mit einer Reihe von verschiedenen Temperatur- und Leistungsstufen. Die gleichmäßige Temperaturverteilung der Maschine innerhalb der Prozesskammer liefert einheitliche und konsistente Ergebnisse. 4520i ist hocheffizient und kostengünstig und ideal für die meisten Ätz- und Veraschungsanwendungen.
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