Gebraucht LAM RESEARCH 4526 #9135993 zu verkaufen

LAM RESEARCH 4526
Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
4526
ID: 9135993
Wafergröße: 6"
Oxide RIE etcher, 6" HINE 38A Indexer Clamp ADVANCED ENERGY PDW2200 RF Generator.
LAM RESEARCH 4526 ist ein Ätzer/Ascher für die Verarbeitung von Halbleiterscheiben. Dieses Mehrzweckinstrument ist in der Lage, eine breite Palette von Materialien wie Photolack, Metalle, Oxide, Nitride und andere zu ätzen und zu aschen. Es ist ein vielseitiges Werkzeug, das für eine Reihe von Anwendungen wie Mustern, Dotieren usw. verwendet wird. Dieses System ist mit zwei leistungsstarken Plasmaquellen ausgestattet, die es ermöglichen, Wafer bis 200 mm Durchmesser in einem maximalen Temperaturbereich von bis zu 385 ° C zu verarbeiten. Diese Maschine verfügt auch über eine fortschrittliche Temperaturkontrolle und Gleichmäßigkeitsüberwachung, die es Benutzern ermöglicht, die Proben mit Präzision zu erhitzen oder zu kühlen. Zusätzlich ist 4526 mit einem Hochgeschwindigkeits-nachgeschalteten Roboter-Gantry ausgestattet, der einen schnellen und zuverlässigen Materialtransfer ermöglicht. Das System verfügt über erweiterte Softwarefunktionen wie Fehlerverfolgung und automatische Kammerreinigung sowie eine Vielzahl von Prozessrezepten, mit denen die Ätz- und Ascheprozesse auf verschiedene Substrate abgestimmt werden können. Auf diese Weise können Anwender individuelle Ätzrezepte für jede Anwendung erstellen, um überlegene Prozessergebnisse zu gewährleisten. Aufgrund seiner Flexibilität eignet sich LAM RESEARCH 4526 für eine Vielzahl von Produktionsprozessen. Die Maschine wurde entwickelt, um den Waferdurchsatz zu optimieren, die Ausbeute zu erhöhen und Verschmutzungen zu reduzieren. Darüber hinaus verbessern die robuste Steuerungssuite und die intuitive Software die Vielseitigkeit und Benutzerfreundlichkeit der Maschine erheblich. Dies macht es eine ausgezeichnete Wahl sowohl für Forschung und Industrie Anwendungen. Insgesamt ist 4526 ein zuverlässiger und vielseitiger Ätzer/Ascher, der auf die Bedürfnisse der Anwender zugeschnitten ist. Seine fortschrittlichen Eigenschaften, zusammen mit seiner hohen Leistung, machen es zu einer klugen Wahl für jedes Waferbearbeitungslabor.
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