Gebraucht LAM RESEARCH 4528 #9136807 zu verkaufen

LAM RESEARCH 4528 Asher/Etcher ist ein automatisiertes Plasmaätzarbeitsplatzgerät für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Die Maschine ist für Präzisionsplasmaätzen und Direktionsentfernung mit wiederholbaren Ergebnissen ausgelegt. Es verfügt über eine mehrzonige, hochauflösende, selbstkompensierende Endpunktdetektionsausrüstung. Diese Einheit ist in der Lage, entweder niederfrequent oder hochfrequent zu arbeiten. Die Vorrichtung ist mit einem Schwenkarm und einem zweistufigen Vakuumsystem aufgebaut, das eine Hochtemperatur-Einzelkammer umfasst. Die Vakuumeinheit bietet abdichtbare und reinigbare Vakuumoperationen, um eine sichere Umgebung für den Betrieb zu schaffen, die kontaminationsfreie Operationen und Prozesse ermöglicht. Es verfügt auch über ein aktives kreisförmiges Zielfutter mit HF-Joch. 4528 unterstützt eine breite Palette von Prozessfähigkeiten. Es ist in der Lage, bis zu 350 mm Wafer zu ätzen. Es verfügt über eine fortschrittliche First-Step-Ätzmaschine und ist mit mehreren Sätzen unabhängiger Gasinjektoren konfiguriert. Der fortschrittliche First-Step-Etch verbessert die Wiederholbarkeit und Konsistenz des Ätzens. Es verfügt auch über ein langfristiges Stabilitätswerkzeug für zuverlässiges Ätzen und In-situ-Ressourcenrückgewinnung für Wasser- und chemisches Recycling. Zusätzlich ist die Vorrichtung für einen hohen Plasma-Inertgasstrom zur konsistenten Ätzratenregelung geeignet. Das Gerät ist mit einer umfassenden Automatisierungsanlage für die Prozession und Handhabung von Wafern ausgestattet. Es verfügt über ein IQ/OQ/PQ-Modell für Routinebetrieb und Autoverifizierung. Automatisierungsfunktionen umfassen Wafer Mapping, Kassetten-zu-Kassetten-Tray-Übertragung, Mini-Umgebungsmodus und schnelle Prozessüberwachung. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine automatisierte Grundiereinrichtung zur Wartung und Prozessanlaufzeitverkürzung. LAM RESEARCH 4528 wurde entwickelt, um eine breite Palette von Rezepten und Prozessen zu unterstützen, einschließlich Standardätzen, Mischarten-Ätzen, anisotropes/isotropes Ätzen, Tiefätzen, Resiststreifen und Tiefenreinigung. Es unterstützt verschiedene Ätzgase, wie sauerstoffbasierte, fluorkohlenstoffbasierte, inerte und chlorbasierte. Es hat auch eine niedrige System Gesamtbetriebskosten und geringe Prozesskomplexität. Es wird nach Halbleiterreinraumstandards hergestellt und ist der gefragteste Arbeitsplatz für Ätzarbeiten.