Gebraucht LAM RESEARCH 4720 #293640844 zu verkaufen

LAM RESEARCH 4720 ist eine Hochleistungs-Ätz-/Aschermaschine für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Es kommt mit einer 8-Zoll-Substratplatte, einer Werkzeugplatte für mehrfache Substratbeladung, fünf Quellplatten und zwei HF-Generatoren für Hochgeschwindigkeitswaferätzen. Das System verfügt über ein intuitives Design für offene Architektur und kann bis zu sechzehn Substrate pro Übertragung verarbeiten. Darüber hinaus bietet das Gerät eine präzise Positionskontrolle und eine Multi-Gas-Abgabefähigkeit. 4720 kann zum Plasmaätzen, kryogenen Ätzen und Aschen einer Vielzahl von Substratmaterialien, einschließlich Silizium, Titan, Aluminium, Gold und Kupfer, verwendet werden. Der präzise abstimmbare HF-Generator bietet präzise gesteuerte Plasmaparameter für wiederholbare Ätzrezepte mit hochwertigen Ergebnissen. Sein schnelles, effizientes und nicht kontaminierendes Ätzverfahren entfernt unerwünschte Materialien von der Substratoberfläche und ermöglicht präzise Gerätefunktionen. Weitere Merkmale sind hochpräzise perforierte Platten, um überlegene Gleichmäßigkeit und Hochdurchsatz-Gaszufuhrsysteme zu ermöglichen, um niedrige Ableitungsraten zu gewährleisten. Darüber hinaus unterstützt die Maschine auch hohe Seitenverhältnisse Ätzen und die Fähigkeit, durch dicke Schichten zu ätzen. LAM RESEARCH 4720 ist zur Vorkonditionierung, Vorreinigung und Nachabscheidung der Ätzkammer in der Lage. Es ist mit einem großen Sprudelbehälter und einer Umluftheizung ausgelegt, um sicherzustellen, dass die Bad- und Kammertemperatur während des Ätzvorgangs stabil und konsistent bleibt. Es kommt auch mit einer Vakuumleitung Vakuum-Schnittstelle, die Verunreinigungen zu reduzieren hilft und macht das Werkzeug zuverlässiger. Die integrierte Kammer Vision Asset bietet einen verbesserten Blick auf den Prozess, ermöglicht Wafer Ausrichtung, Prozessüberwachung, und Diagnostik. 4720 bietet überlegene Genauigkeit, Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit für komplexe Ätz- und Reinigungsvorgänge. Es ist ein ideales Modell für die anspruchsvollen Anforderungen moderner Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen.