Gebraucht LAM RESEARCH 490 / 480 #9365712 zu verkaufen

LAM RESEARCH 490 / 480 ist eine hohe Geschwindigkeit geneigter Winkel etcher/asher, um Passivierungsschichten und andere empfindliche Materialien, spezifisch polyimide und Polysilikon zu ätzen. Es verwendet ein binäres Gaseinspritzsystem, um die Chemie und die Temperatur des Ätz- oder Aschevorgangs genau zu steuern. 490/480 verwendet Plasma, um die molekulare Struktur von Materialien mit einer Geschwindigkeit zu zerlegen, normalerweise schneller als nasschemisches Ätzen. LAM RESEARCH 490/480 ist mit einer Kippwaferkassette ausgestattet, die ein schnelleres und gleichmäßigeres Ätzen ermöglicht. Die Kassette ermöglicht eine einfache Wiedermontage und einfache Extraktion von beladenen Substraten. Der gekippte Winkel des Ätzers hilft, chemische Niederschläge aufgrund von Turbulenzen zu verhindern, die zu einer Unterschneidung und chemischen Segregation führen können. Diese Konstruktion trägt auch dazu bei, ein gleichmäßiges Ätzen über die Gesamtheit der Substrate zu gewährleisten. Dieser Ätzer/Ascher verwendet eine programmierbare Gassteuerung, die in der Lage ist, bis zu 22 Gase in Kombination zu steuern, wodurch materialspezifische Ätz- und Abscheidungsrezepte angewendet werden können. Die Rezepturdatei ermöglicht exakt doppelte Anwendungen desselben Prozesses. Darüber hinaus erleichtern Temperaturzyklus, Ferndiagnose und -überwachung sowie Rezeptspeicherung die Optimierung und konsistente Ergebnisse. 490/480 kann in mehreren Modi laufen, einschließlich Ätzen, Asche, sauber und trocken, so dass mehrstufige Prozesse, wie In-situ-Passivierung, um Rückstände auf den freiliegenden Oberflächen des Substrats zu reduzieren. Das System führt eine hohe Gleichmäßigkeitsätzung bis auf 10 Nanometer mit einem Durchsatz von 170 Wafern pro Stunde durch, während die Basenerosion, die üblicherweise mit Nassätzverfahren verbunden ist, eliminiert wird. Zu den Komponenten von LAM RESEARCH 490/480 etcher/asher gehören ein ProFace TM Display/Bedienpanel und ein E/F-32PCI Board, das eine automatische Wafer-Level-Steuerung ermöglicht. Das System umfasst außerdem einen Submikronfilter, eine dynamische Pumpensteuerung, einen lithographisch strukturierten Roboterloadlock und eine PECVD-Kammer, die mit der Hauptätz-/Waschkammer verbunden ist. 490/480 Ätzer/Ascher ist entworfen, um die strengen Anforderungen der Massenproduktion Anwendungen zu erfüllen und ist ideal für Passivierung, dielektrische und andere empfindliche Anwendungen. Die fortschrittlichen Funktionen und kontrollierten Prozessparameter liefern zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse, was die Genauigkeit und Effizienz verbessert.