Gebraucht LAM RESEARCH 490 / 590 #9077769 zu verkaufen

ID: 9077769
Etcher Main Chamber: Chamber Bottom chamber and exhaust ring Lower electrode assembly with focus ring style electrode (Boxed separately) Vacuums Rotary O-rings Seals Pneumatic tubing and fittings Pneumatic cylinders Upper electrode is process dependent and not supplied Load Locks: Vacuums Rotary O-rings Seals Pneumatic tubing and fittings Pneumatic cylinders Wafer arms and wafer guides are size dependent and not supplied Machine Mainframe: Pneumatic tubing Connectors and fittings Cables re-bundled and ty-wrapped Frame Top panels Front and side panels Elevators: (Packed separately) Top plastic dust covers not supplied Baratron head not supplied Gap Drive head and Automatch: (Packed separately) Front display panel and operator interface Electronics drawer (Packed separately) Factory manuals are included Complete frame RF Power supply is not supplied nor are any external cables, gas lines, throttle valve, or vacuum fittings.
LAM RESEARCH 490/590 ist eine Ätz-/Ascherausrüstung, die sich ideal für eine Vielzahl von Substratmaterialien eignet. Entwickelt, um vielseitig zu sein, unterstützt es den Einsatz von reaktiven Ionenätzen und widersteht Aschetechniken. Dieses System umfasst eine vollständig computergesteuerte Ätzkammer, die eine präzise Steuerung und Wiederholbarkeit des Ätzvorgangs ermöglicht. Die Ätzkammer hat ein Kammervolumen von 40 Litern und ist in der Lage, Vakuumniveaus bis zu 1x10-5 Torr zu erreichen. Es beherbergt eine zweifrequente HF-Quelle Stromversorgung und eine keramische Turbo-Molekularpumpe. Die Kammer verfügt über einen Standard 12 "x12" Substratträger, der für bis zu 8 "Wafer konfiguriert werden kann. Es verfügt außerdem über ein Prozessüberwachungsfenster, das die Überwachung des Ätzprozesses in Echtzeit ermöglicht. Reaktives Ionenätzen (RIE) ist eine Schlüsselfähigkeit dieser Einheit, die das Ätzen von Substraten aus Materialien wie Silizium, Polyimiden, Polycarbosilanen und sogar Metalllegierungen ermöglicht. Es ermöglicht die Bildung komplexer Muster mit scharfen Kanten. Es ist auch in der Lage, sowohl positive als auch negative widersteht Asche zu leisten. Die Maschine verfügt auch über eine Auswahl von Gas Chemical Vapor Deposition (CVD) Fähigkeiten. Dazu gehören Pulsing Mode CVD, Dual Frequency CVD und Dual Power CVD, mit dem Materialien wie SiO2, SiN und Al2O3 auf dem Wafer abgelegt werden können. 490/590 Ätzer/Ascher-Werkzeug ist ein leistungsfähiges Ätzwerkzeug, das eine Vielzahl von Funktionen und Fähigkeiten zur Verarbeitung verschiedener Substrate bietet. Es verfügt über benutzerfreundliche Schnittstellen, flexible Konfigurationen und eine integrierte HF-Quelle zur präzisen Steuerung des Ätzprozesses. Es ist in der Lage, sicher und zuverlässig qualitativ hochwertige Ätzergebnisse zu erzielen und gleichzeitig Produktionszeiten und -kosten zu reduzieren.
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