Gebraucht LAM RESEARCH 490 #293616826 zu verkaufen

LAM RESEARCH 490 ist ein fortschrittlicher Ätzer/Ascher, der bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Der Ätzer/Ascher ist für das Ätzen mit hohem Seitenverhältnis ausgelegt und besteht aus einer mehrzonigen Prozesskammer, die Teil einer Cluster-Werkzeugarchitektur ist. Die mehrzonige Prozesskammer weist Quarzwände auf, um die Zonengleichförmigkeit über das gesamte Substrat zu erleichtern. Die erste Zone von 490 ist die Wafer-Transferzone, die mit einem Roboter die Wafer von der Ladestation in die Kammer überführt. Der Wafer wird dann in einer schonenden, aber gleichbleibenden Mischung aus Polymerkügelchen und Ätzmittel gerührt, um eine gleichmäßige Ätzrate zu erzielen. Die zweite Zone des Ätzers/Aschers ist die Plasmazone, in der ein induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) zur Erhöhung der Ätzrate und Gleichmäßigkeit des Prozesses verwendet wird. Das ICP verfügt über eine fortschrittliche Lichtbogensteuerung, um eine präzise Kontrolle über das Plasma zu gewährleisten. In der dritten Zone der Kammer befindet sich ein CVD-System (Chemical Vapor Deposition), das zur selektiven Siliziumdioxid-Ätzung dient. Die vierte Zone ist die Kühl- und Entlüftungszone, die die Wände und Substrate nach Beendigung des Ätzvorgangs kühlt. Die fünfte Zone der Kammer ist die Abgaszone, die den Ätzdampf und alle anderen während des Ätzvorgangs entstehenden Gase abgibt. LAM RESEARCH 490 Ätzer/Ascher ist in der Lage, hohe Seitenverhältnisöffnungen mit gleichmäßigem Ätzen über das Substrat zu erzeugen. Seine fortschrittliche Lichtbogenerkennungseinheit gewährleistet eine präzise Kontrolle des Plasmas, während die CVD-Maschine eine erhöhte Ätzselektivität und verbesserte Prozessgleichförmigkeit bietet. Darüber hinaus trägt die Kühl- und Entlüftungszone dazu bei, Substratverzerrungen zu reduzieren und eine konstante Ätzrate über mehrere Substrate zu erhalten.