Gebraucht LAM RESEARCH 490 #293657950 zu verkaufen

Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
490
ID: 293657950
Etcher.
LAM RESEARCH 490 ist ein Ätzer/Ascher, der die effiziente und kostengünstige Herstellung von Halbleiterbauelementen ermöglicht. 490 ist für Produktions- und Forschungsanwendungen konzipiert und bietet einen hohen Durchsatz und eine wiederholbare Prozesssteuerung, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten werden kann. Die Prozesskammer ist zweistufig zylindrisch, bestehend aus einem unteren Heizmechanismus und einem oberen Reaktionsraum. Eine automatisierte Waferübertragungseinrichtung erleichtert den Wafertransport zwischen den beiden Kammern. Die untere Kammer weist einen Quarzsensizeptor auf, der mit einem Gashandhabungssystem gekoppelt ist, das eine kontrollierte Abgabe von Prozessgasen ermöglicht. Die Gase werden über einen Mehrgaskrümmer zugeführt und können zur Erzeugung eines Plasmas verwendet werden. Die obere Reaktionskammer enthält einen Abkühlabschnitt für Aschvorgänge. Der LAM LAM RESEARCH 490 ist für den Einzelwaferbetrieb konzipiert und kann mit verschiedenen prozessspezifischen Komponenten konfiguriert werden, darunter Wafer-Handler, Gasquellen, Basisdruckmessgeräte, optische Emissionsspektroskopie, Kammerdruckmessgeräte, Abscheidekopf oder Dusche, Prozessdichtungen und Borddichtungen. Es kann auch mit einem Abgaswäscher, einem Druckregelkreis und zusätzlichen Sicherheitsmerkmalen ausgestattet werden. Der LAM 490 wurde entwickelt, um ein genaues Ätzen und Aschen von Silizium-Halbleitersubstraten mit qualitativ hochwertigen Eigenschaften und einer engen Kontrolle der Prozessparameter zu ermöglichen. Es ermöglicht eine wiederholbare Qualitätssicherung und Optimierung, die auf spezifische Kundenanforderungen zugeschnitten werden kann. Eine Selbstüberwachungsfähigkeit steht auch über die Steuereinheit zur Verfügung, mit der die Qualität des geätzten oder ashten Materials überwacht werden kann. Das LAM LAM RESEARCH 490 kann auch für niederalkalische Ascherei eingesetzt werden, ein innovatives Ätzverfahren, das die kombinierten Effekte von thermischem und Plasma nutzt, um Hochleistungsätzergebnisse bei minimaler Restkontamination zu erzielen. Es kann auch zum niederalkalischen Metallätzen verwendet werden, bei dem das Metall in das Plasma eingebettet ist, wodurch die Kontamination reduziert und wiederholbare Ätzergebnisse erzielt werden. Der LAM 490 Ätzer/Ascher ist eine robuste Maschine zum Ätzen und Aschen einer Vielzahl von Halbleiterbauelementen. Die Fähigkeiten des Werkzeugs, kombiniert mit seinen vielseitigen Eigenschaften, machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für Anwendungen von der Prozessentwicklung bis zur Geräteherstellung.
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