Gebraucht LAM RESEARCH 490 #83458 zu verkaufen

LAM RESEARCH 490 ist eine fortschrittliche, Heavy Duty Reactive Ion Etching (RIE) -Ausrüstung, die zum Ätzen, Reinigen und anderen Oberflächenbehandlungen von Halbleiterscheiben verwendet wird. Dieses System verwendet modernste Hardware und Software, um hochzuverlässige und wiederholbare Ergebnisse über eine Vielzahl von Materialien zu liefern, von Silizium über Dielektrika und Metalle bis hin zu Verbundhalbleitern. 490 wird standardmäßig mit einem 0,1-um-Auflösungslaserinterferometer und einem optischen Profilometer geliefert, um ein präzises Ätzprofil zu gewährleisten. Das Plasma entsteht in der isolierten Kammer durch Anlegen eines energiereichen elektrischen Feldes an ein chemisch reaktives Gas oder durch Erwärmen eines plasmaerzeugenden Gases auf eine virtuelle „Lawine“. Die Ätzrezepte können an spezifische Bedürfnisse angepasst werden. Die LAM RESEARCH 490 nutzt auch einen aufgehängten Substrathalter und tragende Strukturen, so dass eine breite Palette von Ätzprozessen auf einer Vielzahl von Materialien durchgeführt werden kann. Darüber hinaus ist 490 mit Druckregelsystemen ausgestattet, die allen Prozessanforderungen gerecht werden können. LAM RESEARCH 490 ist in der Lage, sehr hohe Seitenverhältnisse für das Ätzen mit Tiefen von 0,05 - 1 um zu erzeugen. Es verfügt auch über eine Low-Load-Point-Reaktant-Steuereinheit (LLRC), die eine präzise Kontrolle über Reaktantflüsse und Gleichmäßigkeit über das Substrat ermöglicht. Ionen können selektiv auf dem Substrat abgeschieden werden, wodurch die Entfernung von unerwünschtem Material reduziert wird. 490 verfügt über eine patentierte hochfrequenzinduktiv gekoppelte Plasmaquelle (RFICP). Dies ermöglicht eine In-situ-Plasmadiagnostik mit pulsmodulierter Spektroskopie und Emissionsbildgebung des Plasmas. Diese Fähigkeit ist entscheidend für die Analyse von Ätzprozessen, um die Ätzprozessbedingungen zu optimieren und den Durchsatz zu verbessern. LAM RESEARCH 490 hat mehrere Optionen, um die Co-Abscheidung von kritischem Material zu reduzieren und jedes Potenzial der Rückbenetzung zu eliminieren. Dies ist eine große Kosteneinsparung beim Betrieb großer Chargen von Substraten. 490 verwendet einen vakuumarmen Auspuff, um eine vollständige Evakuierung der Reaktionskammer zu gewährleisten und keine Spur von Nebenprodukten oder Reaktionsprodukten zu hinterlassen. LAM RESEARCH 490 verfügt auch über eine fortschrittliche Sicherheitsmaschine mit eingebauten Redundanzen, um eine ununterbrochene Arbeitsumgebung zu gewährleisten. 490 ist für CE- und CSA-Kontrollkonformität zertifiziert und stellt sicher, dass es die höchsten Sicherheitsstandards erfüllt und in jeder Umgebung eingesetzt werden kann. Insgesamt ist LAM RESEARCH 490 ein wesentliches Werkzeug im Halbleiterherstellungsprozess. Seine fortschrittliche Technologie liefert präzise und wiederholbare Ergebnisse, und seine Sicherheitssysteme gehen über und über die Industriestandards hinaus. 490 ist die ideale Wahl für jegliche Ätz- oder Reinigungsanforderungen in der Halbleiterindustrie.