Gebraucht LAM RESEARCH 490 #9031604 zu verkaufen

LAM RESEARCH 490 ist ein fortschrittlicher Plasmaätzer und chemischer Ascher. Es ist Teil der E-Serie Plasmen und Ascher von LAM, die entwickelt wurden, um hochpräzise Ätzmuster auf einer Vielzahl von Substraten zu produzieren, einschließlich dielektrischer, Polyimide und SiO2-Materialien. Der LAM 490 arbeitet mit einer Nennleistung von 300W und kombiniert erweiterte Ätzzeitfähigkeit mit niedrigen Verschmutzungsgraden und verbesserter Gleichmäßigkeit. LAM RESEARCH 490 kommt mit einer Vielzahl von Gasleitungs- und Druckfähigkeiten, die eingestellt werden können, um eine breite Palette von Prozessdruck und Konzentration aufzunehmen. Diese Flexibilität ermöglicht Anwendungen mit einer Vielzahl von Zelltypen, einschließlich, aber nicht beschränkt auf, Dual-Level-Etch, Stepped Etch und Änderungen für fortgeschrittene Anwendungen, wie vertikale Profile. 490 hat auch eine ausgezeichnete Vergasung, die es erlaubt, Präzision mit schwierigen Ätzszenarien, wie Plasmen aus Kohlenstoff-, Fluor- und Sauerstoffmaterialien, aufrechtzuerhalten. Darüber hinaus ist die mit LAM RESEARCH 490 erreichbare Ätzselektivität hervorragend und wird häufig in Bereichen wie Waferoberflächenpräparation, chemisch-mechanische Planarisierung (CMP) und Interlevel-dielektrisches Ätzen eingesetzt. Ein weiterer Vorteil von 490 ist, dass es eine breite Palette von Kammerkonfigurationen und Optionen hat, wie eine zweistufige oder zweistufige Ionenquelle, drehbare und lineare Antennenarrays, variable Druckfähigkeit und integrierte Reinigungsfunktionen. Dadurch kann sie auf die spezifischen Bedürfnisse eines Kunden zugeschnitten werden. Darüber hinaus kommt es mit hoher Leistung, wiederholbare Ätztimer, die den Betreibern die Möglichkeit gibt, die Prozesszeit genau zu steuern, mit minimaler Varianz. Darüber hinaus verfügt LAM RESEARCH 490 über eine DC-RF-Stromquelle mit einstellbaren Leistungspegeln und einstellbarer Frequenz, die eine präzisere Ätzung ermöglicht. Insgesamt ist 490 ein idealer fortgeschrittener Plasmaätzer und chemischer Ascher für eine Vielzahl von Branchen und Anwendungen. Sein hochmodernes Design ermöglicht eine verbesserte Effizienz, Genauigkeit und Qualitätskontrolle mit einer Vielzahl von Anforderungen an die Prozessätzung. Seine Vielseitigkeit und Präzision machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für hochwertige, komplexe Projekte.