Gebraucht LAM RESEARCH 490 #9094106 zu verkaufen

LAM RESEARCH 490 Ätzer/Ascher ist ein hocheffizientes Hochdurchsatzgerät zum Ätzen und Aschen von Wafern, das ein hohes Maß an Flexibilität für verschiedene Prozesse bietet. Das System verwendet fortschrittliche Konstruktionstechniken, um berechenbare Prozessergebnisse zu liefern. Es eignet sich gut für Low-K-Leiterbahnen mit hoher Dichte, Forschungs- und Entwicklungsanwendungen sowie für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. 490 ist eine Einkammer-Einheit, die aus zwei Hauptkomponenten besteht: dem Reactive Ion Etcher und Asher (RIEA) und dem HF-Netzteil. Das RIEA nutzt einen magnetisch begrenzten Bogen, um den Ätzprozess zu erzeugen. Zwischen dem Wafer und der Kathode wird durch Anlegen von negativem Potential ein Lichtbogen erzeugt. Das Lichtbogenspray wird mit einem wassergekühlten ETCH-konzentrischen Ring fokussiert, um die Bewegung des Ions zu beschränken und Ionen auf den Wafer zu lenken. Das HF-Netzteil liefert eine einstellbare Gleichspannungsleistung (von 0 bis 500W) für eine optimierte Plasmaerzeugung, unabhängig vom Kammerdruck. Die Maschine ist vollständig integriert und einfach zu bedienen, mit einer flexiblen Softwarearchitektur und integrierten Sicherheitsfunktionen, die Prozesssteuerungsfunktionen bieten. Darüber hinaus hat das Werkzeug eine hohe Wiederholbarkeit, eine schnelle Zykluszeit und ein geringes Risiko für Wafer-Warp. LAM RESEARCH 490 bietet eine breite Palette von Ätz- und Ashing-Optionen mit einer anpassbaren Prozessbibliothek, mit der Benutzer das Asset an ihre spezifischen Anwendungen anpassen können. Das Modell wurde entwickelt, um mit einer breiten Palette von Reinigungschemikalien zu arbeiten und gleichzeitig hochdurchsatz- und hochkontrollierte Ätz- und Ascheprozesse zu ermöglichen. 490 wurde entwickelt, um die Anforderungen mehrerer Industriestandards für die Halbleiterherstellung zu erfüllen oder zu übertreffen. Es entspricht ISO 9001:2015, US FDA 21 CFR Part 11 und SEMI Sec 7. LAM RESEARCH 490 ist eine ausgezeichnete Wahl für jede Ätz- und Ascheanwendung in der Halbleiterindustrie. Es bietet eine effektive, hocheffiziente und hochdurchsatzreiche Ausrüstung für die Durchführung einer Vielzahl von Ätz- und Ascheprozessen mit einem hohen Maß an Prozesskontrolle, Wiederholbarkeit und Sicherheit.