Gebraucht LAM RESEARCH 490 #9196387 zu verkaufen

LAM RESEARCH 490
Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
490
ID: 9196387
Wafergröße: 6"
Automatic etcher systems, 6" Process: Metal.
LAM RESEARCH 490 ist ein hochmoderner Ätzer/Ascher mit Plasma- und Fotoresisttechnologien. Es wurde entwickelt, um Materialien wie Metalle, Kunststoffe, Keramik und dünne Folien mit sehr genauer Toleranzkontrolle zu ätzen. Dies macht es ideal für komplizierte Muster und Merkmale für hohe Zuverlässigkeit elektronische und optoelektronische Komponenten zu schaffen. 490 ist mit einem automatisierten Wafer-Handhabungsmechanismus ausgestattet, der das Be- und Entladen beim Ätzen erleichtert. Dieser Mechanismus gewährleistet die Gleichmäßigkeit der Ätzprozesse, die wiederholbare Ergebnisse ermöglichen. Es verfügt auch über einen Waferausrichtungsprozess, um Fehler beim Ätzen zu minimieren und unterirdische Schäden zu minimieren. LAM RESEARCH 490 bietet sowohl RF- als auch DC-Ätzen an. Das RF-Ätzen ermöglicht das Ätzen, ohne überschüssige Ionen zu erzeugen, die typischerweise durch höhere gemäßigte Prozesse erzeugt werden, wodurch eine Materialverschmutzung verhindert und die Qualität der geätzten Ergebnisse verbessert wird. Bei der Gleichstromätzung wird dagegen ein niedrigstromiges Ätzverfahren angewendet, das die Ätzrate erhöht und Ätzzeiten verkürzt. Der Ascherabschnitt von 490 bietet sowohl kurze als auch lange typische Ätz-/Schreibläufe. Es kann auch verwendet werden, um Fotoresistenzen auf Wafer vor dem Ätzen anzuwenden. LAM RESEARCH 490 ist einzigartig in seiner Fähigkeit, mit sehr hoher Wiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit über eine breite Palette von Waferdurchmessern zu ätzen und zu aschen. Das Steuerungssystem 490 ist ein geschlossenes System mit internen Sensoren, die optimale Ätzparameter für verschiedene Materialien und Prozessarten ermöglichen. Diese Erfassungsfunktionen überwachen auch plötzliche Änderungen, die zu Prozessinstabilität führen könnten. Insgesamt ist LAM RESEARCH 490 ein zuverlässiger und hochgenauer Ätzer/Ascher, der für eine Vielzahl von Photoresist- und Ätzprozessen eingesetzt werden kann. Seine Eigenschaften und Fähigkeiten helfen ihm, optimale Ätzleistung und -qualität in schnellen Umkehrzeiten zu erreichen.
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