Gebraucht LAM RESEARCH 490 #9226284 zu verkaufen

LAM RESEARCH 490
Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
490
ID: 9226284
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1987
Etcher, 6" 1987 vintage.
LAM RESEARCH 490 ist ein Nassätzer/Ascher, der entwickelt wurde, um hochpräzise Musterübertragungs- und Ätzfähigkeiten im Halbleiterherstellungsprozess bereitzustellen. Es bietet sowohl schnelle Zykluszeiten als auch wiederholbare Prozessergebnisse, sodass Chipdesigner kleine, komplexe integrierte Schaltungen mit hoher Zuverlässigkeit produzieren können. 490 verfügt über eine große Flüssigkeitsresist- und Ätzkammer, die 4-Zoll-Wafer oder bis zu 8-Zoll-Wafer in ihrer Minikammer aufnehmen kann. Es zeigt ein automatisiertes flüssiges Echtzeitniveauüberwachungsfeld (Auto-LVM) und eine widerstandsfähige materielle Verwaltungsausrüstung (RAM), das das genaue Ätzen jeder Schicht sichert. Die Top-Ladelast beinhaltet bis zu zehn Prozessrezepte und einen sauberen Luftvorhang für Chip-Produktionsumgebungen. Darüber hinaus bietet es eine enge Prozesssteuerung für optimale Musterübertragung, präzise gleichmäßige Ätzung und Fehlerreduzierung. Das System verfügt über einen Wafer-Handling-Roboter, eine präzise Venturi-basierte Ätzquelle und eine Laminar-Flow-Gasverteileinheit, um eine gleichmäßige Fokussierung und Ätzrate zu gewährleisten. Es enthält auch eine automatisierte Wasserspülung und saubere Ladelast für schnelle Übertragung und eine beheizte Ladelast für schnellere Ausgleichszeit, um den Durchsatz zu verbessern. LAM RESEARCH 490 verfügt über erweiterte Softwaresteuerungen und eine benutzerfreundliche grafische Bedienoberfläche mit einer maßgeschneiderten Alarmanzeige. Es bietet Benutzern eine automatisierte Werkzeugqualifizierungsmaschine mit einer Offline-Optimierungsfunktion und einem in-situ OEE Monitor zur Überwachung von Zykluszeit und Fehlerrate. Darüber hinaus ermöglicht eine umfangreiche Prozessdatenbank einen schnellen, wiederholbaren Betrieb. 490 ist ein All-in-One Etch/Etch-Asher-Werkzeug, das für hochpräzise, wiederholbare Ergebnisse entwickelt wurde. Es eignet sich für den Einsatz in kleinen und großen Halbleiterherstellungsprozessen und bietet eine kostengünstige Lösung für eine Vielzahl von Prozessanforderungen.
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