Gebraucht LAM RESEARCH 490 #9262879 zu verkaufen

LAM RESEARCH 490 ist ein Mittelvakuumätzer/Ascher, der für eine breite Palette von Abscheide- und Ätzprozessen in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Der Ätzer/Ascher nutzt mehrere Hochdruck-Niedertemperatur-Gasquellen, die eine präzise Steuerung der Prozessparameter ermöglichen. 490 verfügt über eine präzise Gaslieferung, eine präzise Druck- und Temperaturregelung und eine präzise Steuerung der Quellleistung. LAM RESEARCH 490 kann mit einer Vielzahl verschiedener Gase verwendet werden, darunter FEP (Fluorinated Ethylen Propylen), CF4 (Carbon Tetrafluorid), CHF3 (Chlorotrifluormethan), Ar (Argon) und andere Gase. 490 verfügt über eine zweistufige Vakuumeinrichtung, die eine Vakuumpumpenkammer und eine 2-Strahl-Ionenstrahlkammer umfasst. Die Vakuumpumpenkammer hat ein 10mT ultimatives Vakuumniveau und ist mit einer MechanicalTurbo-Molekularpumpe ausgestattet, um dieses Vakuumniveau aufrechtzuerhalten. Die Zweistrahl-Ionenstrahlkammer enthält eine Diffusionspumpe, die eine stabile, gleichmäßige Verteilung der Ionen auf die Probe ermöglicht. Die Ionenstrahlkammer enthält auch eine hochenergetische Ionenquelle, die Ionen von bis zu 50keV erzeugen kann. LAM RESEARCH 490 verfügt zudem über ein maßgeschneidertes Gas Management System (GMS), das eine präzise Steuerung der Gaszusammensetzung und Durchflussmenge in der Vakuumprozesskammer ermöglicht. Das GMS ermöglicht eine Vielzahl von Prozessparametern, von Niederdruck bis Atmosphärendruck. Das GMS enthält auch eine einzigartige Funktion, genannt Power Control Interface (PCI), die eine direkte Steuerung der Quellenleistung ermöglicht, unabhängig vom Gasfluss. 490 ist für die Verwendung mit einer Vielzahl von Substraten, einschließlich Silizium, Quarz und Keramik. Es ist auch in der Lage, eine Vielzahl von Mustergrößen und Formen unterzubringen. LAM RESEARCH 490 verfügt über eine breite Palette von verfügbaren Prozessdurchflussraten, von niedrig bis hoch. Abschließend ist 490 ein mittlerer Vakuumätzer/Ascher, der mit seiner zweistufigen Vakuumeinheit, der maßgeschneiderten Gasmanagementmaschine und der Power Control Interface eine präzise Steuerung der Prozessparameter ermöglicht. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Substraten zu verarbeiten und bietet eine breite Palette von verfügbaren Prozessdurchflussraten.