Gebraucht LAM RESEARCH 490 #9398854 zu verkaufen

LAM RESEARCH 490 ist eine Hochleistungs-Ätz-/Aschelösung, die den Anforderungen der Fertigungsindustrie gerecht wird. Die Einheit besteht aus einer Verarbeitungskammer, einem Tragrahmen, einer Stromversorgung, einer Sicherheitsverriegelung und einem Trennventil. Die Verarbeitungskammer ist mit Gasmanagementgeräten und einem chemischen Abgabesystem ausgestattet, das eine präzise Steuerung unterschiedlichster Prozessbedingungen ermöglicht. Seine Plattformtechnologie verwendet die neuesten keramisch verpackten Substrate und eine Reihe von Ätz- und Abscheidungssystemen für Materialien wie Silizium, Aluminium, Kupfer und mehr. Die Bearbeitungskammer enthält eine Reihe von einstellbaren Parametern, um die Anpassung von Ätz- und Abscheidungsprofil für optimale Leistung zu ermöglichen. Beispielsweise kann die Temperatur von 20 ° C bis 1000 ° C und die Substrattemperatur von 300 ° C bis 2000 ° C gesteuert werden. Der Druckbereich liegt zwischen 1 mbar und 500 mbar, während der Prozeßgastyp entweder He, Ar oder O2 gewählt werden kann. Die Gasströmungsgeschwindigkeit kann je nach Prozessbedarf eingestellt werden. Es ist ein Druck- und Temperaturmeßgerät vorgesehen, das die Prozessbedingungen in Echtzeit ablesen kann. Das Gerät ist auch mit mehreren Funktionen ausgestattet, um die Sicherheit zu verbessern, wie z.B. ein an der Vorderseite angebrachter Zaun, ein Fernverkleidungsschalter und eine elektrostatische Entladungs-Steuereinheit (ESD). Sie gewährleistet die Einhaltung der geltenden Sicherheitsvorschriften durch Personenschutz und Gefahrenabwehr. Darüber hinaus ist 490 mit einem niedrigen thermischen Budget ausgelegt, um das Risiko von Probenabbau zu reduzieren. LAM RESEARCH 490 verfügt auch über eine tri-automatisierte Port-Option, die eine einfache Wartung und Reparatur seiner Komponenten ermöglicht. Diese Funktion macht es zu einer idealen Lösung für eine schnelle Installation und nahtlosen Betrieb. Insgesamt ist 490 eine Multi-Application Wafer Processing Machine, die in der Lage ist, verschiedene Ätz- und Ablagerungsprozesse auf verschiedenen Substraten durchzuführen, was sie zu einem wesentlichen Kapital für die Ablations- und Strukturierungsbedürfnisse der Halbleiter- und Fertigungsindustrie macht. In Kombination mit seiner zuverlässigen, energieeffizienten Leistung dient es als effiziente und kostengünstige Lösung für die Ätz- und Ablagerungsbedürfnisse der Branche.