Gebraucht LAM RESEARCH 590 #293604252 zu verkaufen

LAM RESEARCH 590 ist eine Art Ascher, die als Teil eines Verfahrens zum Ätzen/Mustern elektronischer Bauteile auf einer Materialoberfläche verwendet wird. Es handelt sich um einen Einwaferascher, was bedeutet, dass er nur jeweils einen Wafer verarbeiten kann. Dies bietet den Vorteil einer besseren Prozesssteuerung bei geringerer Variation von Wafer zu Wafer, da jeweils nur ein Wafer in der Prozesskammer vorhanden ist. 590 ist mit einer Resist-Vorbackkammer, einem Plasmagenerator und einem Gaskrümmer ausgestattet. Die Vorbackkammer dient zur Erwärmung der Oberfläche des Substrats zur besseren Haftung des Photolacks. Der Plasmagenerator erzeugt eine Plasmaumgebung mit einer Kombination von Energiequellen wie HF- und DC-elektrischen Feldern, chemischen Reaktanden und einem Prozessgas. Der Gaskrümmer versorgt den Plasmagenerator mit dem richtigen Durchfluss und Anteil mit Prozessgas. LAM RESEARCH 590 wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Ätzprozessen wie Oxidätzen, Oxidasche, Oxidstreifen und Nitridasche zu unterstützen. Dies ist auf seine breite Prozessfähigkeit zurückzuführen, die eine breite Palette von Prozessgasen wie Chlor, NF3 und CF4and zwei Temperaturoptionen abdeckt: niedrig (25 ° C) und hoch (90 ° C). Die Niedrigtemperaturoption bietet eine höhere Steuerbarkeit der Prozesse. Darüber hinaus ist 590 mit mehreren Prozessüberwachungs- und Steuerungsfunktionen ausgestattet, wie Echtzeit-Auto-Tune, Echtzeit-Datenprotokollierung (DC < -400v) und Wafer Inspection Monitoring System (WIMS). Diese Funktionen bieten Anwendern detaillierte Prozesskontrolle und Leistungsdaten. LAM RESEARCH 590 bietet einen zuverlässigen und konsistenten Prozess zum Ätzen und Strukturieren elektronischer Bauteile auf Materialoberflächen. Mit einer HF-Stromquelle bis zu 550W und Prozesstemperaturen bis 90 ° C bietet 590 eine hervorragende Prozesssteuerung und Wiederholbarkeit. LAM RESEARCH 590 ist auch mit einer Vielzahl von Prozessüberwachungs- und Steuerungsoptionen und -funktionen ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, den Prozess auf ihre spezifischen Anwendungsbedürfnisse abzustimmen.