Gebraucht LAM RESEARCH 590 #293604302 zu verkaufen

LAM RESEARCH 590 Etcher/Asher ist ein Dualkassettenätzgerät mit hoher Leistung und Flexibilität für Ätz- und Ascheprozesse in einer Vielzahl von Anwendungen. 590 wurde entwickelt, um eine effiziente, kostengünstige Lösung für Unternehmen zu sein, die in trockenen und nassen Umgebungen Hochdurchsatzätzen und -veraschen benötigen. Dieses System ist mit einer intuitiven Softwareschnittstelle aufgebaut und kann einfach in automatisierte Wafer-Handling-Systeme integriert werden, um das Risiko menschlicher Fehler zu reduzieren. Es ist vielseitig, modular und anpassbar in den Bereichen Temperaturregelung, Gas- und Entlüftungssysteme, Wafer Material Handling und End-of-Run-Operationen und Diagnostik. LAM RESEARCH 590 ist eine Hochleistungs-Ätz- und Ascheeinheit, die mit einer Dreizonenmaschine optimiert wurde, die aus einer Ätzzone, einer sauberen Zone und einer Backzone besteht. Die Ätzzone ermöglicht einen schnellen Ätzprozess durch ein Lastschließwerkzeug mit bis zu drei Kassetten, wodurch gleichzeitig bis zu 24 Wafer in einem einzigen Ätzzyklus geätzt werden können. Die Reinzone ist für die Gasoxidation ausgerüstet, um das Material von der Oberfläche eines wiederzuätzenden Wafers sauber abzustreifen. Schließlich bietet die Backzone ein einfach zu bedienendes Backgut mit einer ofengroßen Temperaturgleichmäßigkeit von ± 3 ° C. 590 besteht auch aus einem neuen, innovativen Gasmanagementmodell zur Steuerung und Überwachung von Ätzprozess-Umgebungsgasströmen und -druck. Dies ermöglicht es Benutzern, eine Überdruckgrenze über den Wafer innerhalb der Ausrüstung aufrechtzuerhalten, um die Prozessgleichförmigkeit zu erhöhen und gleichzeitig das Recycling des Ätzmittels und des Prozessabgases zu ermöglichen. Schließlich bietet LAM RESEARCH 590 sowohl Trocken- als auch Nassspülung. Dies ermöglicht es Anwendern, eine perfekte Reproduzierbarkeit in ihren Experimenten zu erzielen, schnelle, effiziente Ätzoperationen durchzuführen oder jede Art von Trocken- oder Nassätzprozess auszuwählen. Dies macht es einfach, 590 für eine Vielzahl von Ätz- und Aschevorgängen zu verwenden, sodass Benutzer wiederholte Testläufe durchführen, Parameter schnell anpassen und Prozessergebnisse optimieren können.