Gebraucht LAM RESEARCH 590 #9226108 zu verkaufen

LAM RESEARCH 590
Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
590
ID: 9226108
Wafergröße: 6"
Oxide etcher, 6".
LAM RESEARCH 590 Etcher/Asher ist ein Mehrzweck-Abscheidungswerkzeug zum Ätzen und Abscheiden von Material zur Oberflächenbeschichtung und Modifizierung. Es verwendet eine patentierte Plasma erzeugende „Diamant-Fenster“ -Technologie, um präzise Ätzungen zu erstellen, so dass Benutzer Metalloberflächen nach genauen Spezifikationen entwerfen und formen können. Es wurde entwickelt, um eine kostengünstige Lösung zur Bewältigung komplexer Oberflächenmodifizierungsaufgaben unter Beibehaltung eines hohen Durchsatzes und präziser Genauigkeit bereitzustellen. 590 verfügt über eine kompakte Größe, die es ermöglicht, in Labor- und Fertigungsumgebungen zu passen. Es bietet präzise und wiederholbare Abscheideprozesse, die sowohl eine hochpräzise Oberflächenmodifikation als auch eine topographische Abstimmung ermöglichen. Seine Hauptmerkmale umfassen Druck- und Temperaturregelung, einfache Einstellung der Ätzrate und Schichtdicke, schnell veränderbare Düsengrößen und eine Vielzahl von kompatiblen Prozessgasen. LAM RESEARCH 590 ist mit einem Hochleistungs-Gassystem ausgestattet, das ausschließlich für die Hochleistungsverarbeitung optimiert ist und in der Lage ist, mehrere Gasquellen und Fördersysteme zu unterstützen. Der Ätzer ist in der Lage, hochreine Materialien sowie Metalle mit verschiedenen Mischprofilen wie Edelstahl und Aluminium zu ätzen. 590 verfügt auch über ein hochauflösendes Multi-View-Optiksystem, das eine schnelle, genaue Erkennung des Abscheidungsfortschritts ermöglicht und die Notwendigkeit einer Probenauswertung eliminiert. LAM RESEARCH 590 wurde entwickelt, um durch den Einsatz integrierter Diagnose- und Steuerungssysteme eine einfache Wartung und Flexibilität zu gewährleisten. Das System ist mit einem Mehrzonen-Wafer-Futter mit digitalen Heizungen, einem Hochgeschwindigkeitsofen und einer programmierbaren digitalen Logik zur Prozess- und Komponentensteuerung ausgestattet. Darüber hinaus ermöglicht die fortschrittliche Softwarearchitektur eine Prozesssteuerung und -optimierung, um wiederholbare und zuverlässige Leistung zu gewährleisten. Ein einzigartiges Merkmal von 590 ist seine Fähigkeit, den Substrattisch zu bewegen, während Ätz- und Abscheideprozesse stattfinden. So können Anwender die Ergebnisse eines Prozesses genau auswerten und die Parameter nach Bedarf in Echtzeit anpassen. Darüber hinaus wurde es für niedrige Betriebskosten konzipiert, so dass Benutzer Kosteneinsparungen durch reduzierte Kapitalinvestitionen, Betriebskosten und Wartung realisieren können.
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