Gebraucht LAM RESEARCH 590 #9226290 zu verkaufen

LAM RESEARCH 590
Hersteller
LAM RESEARCH
Modell
590
ID: 9226290
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1999
Etcher, 6" 1999 vintage.
LAM RESEARCH 590 ist ein hochmoderner Ätzer/Ascher für Anwendungen in der Halbleiterverarbeitung. Es ist eine vollautomatische Ausrüstung, die ein hohes Maß an Prozesssteuerungsdynamik, hohen Durchsatz und außergewöhnliche Wiederholbarkeit der Ergebnisse bietet. Das System ist auf einer modularen Plattform aufgebaut und bietet flexible Konfigurationsmöglichkeiten. Diese integrierte Plattform bietet branchenübliche Skalierbarkeit der Verarbeitungsfunktionen auf die nächste Ebene. 590 verfügt über ein High-Speed, High-Density Plasma Source Module (PSM), das eine präzise Kontrolle über die Plasmaätzrate und die Auslastung bietet, um die Verarbeitung von integrierten Schaltungen (ICs) und anderen Geräten zu optimieren. Das PSM bietet eine Auswahl von drei unabhängigen Kanälen für induktiv gekoppelte und hochfrequente Plasmaquellen. Diese Einheit umfasst auch thermisch isolierten Substratträger, einen Substratwärmetauscher hoher Dichte, eine Mehrkopf-Spannungsquelle und eine fortschrittliche Echtzeit-Softwaresteuerung aller Operationen. LAM RESEARCH 590 verfügt auch über erweiterte Computerprozessor- und Softwarefunktionen, einschließlich Prozessüberwachung und -steuerung. Diese Maschine wurde entwickelt, um einheitliche, wiederholbare Ergebnisse und ausgezeichnete Langzeitstabilität zu liefern. Um hervorragende Ergebnisse zu erzielen, verfügt das Tool über automatische Fokussteuerung (AFC) und automatische Fokusresonanzspiegel (AFM). Das AFC-Asset steuert die Strahlposition, während das AFM die Ätzrate anpasst, um eine optimale Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. 590 ist auch mit einem fortschrittlichen Process Substrate Control and Monitoring (PSCM) Modell ausgestattet, das eine integrierte Echtzeitsteuerung aller Verarbeitungsparameter bietet. Diese Ausrüstung ermöglicht eine umfassende Verwaltung, Überwachung und Steuerung von Prozessparametern, einschließlich Druck, Temperatur, HF-Leistung und Gasnutzung. Das System ist auch vollständig kompatibel mit branchenüblichen Musterdefinitions-, Simulations- und Optimierungswerkzeugen. LAM RESEARCH 590 unterstützt auch hochpräzise Prozessrezepte, die auf der Festplatte des Geräts gespeichert sind, um einen schnellen Abruf und eine einfache Einrichtung zu ermöglichen. Die Maschine wird von der fortschrittlichen technischen Unterstützung von LAM RESEARCH für eine schnelle und effektive Problemlösung unterstützt. Dieses fortschrittliche Support-Netzwerk stellt sicher, dass Kunden das Beste aus ihrem Ätzer/Ascher herausholen und eine kontinuierliche Prozessoptimierung sicherstellen.
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