Gebraucht LAM RESEARCH 853-025083-001 #293641757 zu verkaufen

ID: 293641757
SE Mini match for 9400 / 9600 / 4420 / 4720.
LAM RESEARCH 853-025083-001 ist ein Ätzer/Ascher zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es ist ein Mehrkammer-Plasmaätzer mit hoher Dichte, der eine Vielzahl von Substratmaterialien strukturieren kann. 853-025083-001 verfügt über vier Bearbeitungskammern, die mit unabhängigen Hochfrequenzquellen ausgestattet sind, so dass in jeder Kammer gleichzeitig geätzt werden kann. Jede Kammer ist in der Lage, hochdichtes Plasma zu produzieren, um Wafer schnell zu verarbeiten. LAM RESEARCH 853-025083-001 bietet einen komfortablen Wartungszugang über eine bidirektionale Frontladeraum. Darüber hinaus erzeugt die neue Gasförderanlage genaue Gasströme für präzise Ätzparameter. 853-025083-001 ist ein fortschrittliches Ätzsystem mit integrierter Kantenvorspanntechnologie, die die Plasmaätzprofile minimiert. Sein modifizierter HF-Ionisator bietet hochdichtes Plasma für gleichmäßige Ätzraten über den Wafer. Das Plasmalab® powered Source Management bietet Flexibilität, Ätzparameter zwischen Substraten für optimierte Ätzergebnisse zu verändern. Die koaxiale Duschkopfkonstruktion rührt das ionisierte Gas für gleichmäßige Ätzergebnisse. Darüber hinaus verbessern zweidimensionale Prozesszustandsüberprüfungseinheit, Echtzeit-Endpunkterfassung und Temperaturregelung die Maschinenleistung. LAM RESEARCH 853-025083-001 umfasst eine automatisierte Computerschnittstelle, mit der Daten gespeichert, Ergebnisse überprüft, Prozessparameter optimiert und Gruppenrezepte schnell verändert oder von einem Werkzeug zum anderen übertragen werden können. 853-025083-001 ist mit Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, darunter ein schwimmendes Verriegelungswerkzeug und ein prozesssicheres Gehäusedesign, das Personal und Umwelt vor gefährlichen Plasmen und Gefahrstoffen schützt. LAM RESEARCH 853-025083-001 ist eine fortschrittliche Ätzanlage für die Herstellung von Wafern und Halbleiterbauelementen. Es ist mit Merkmalen ausgestattet, die gleichmäßige Ätzergebnisse liefern und gleichzeitig die Plasmaätzprofile beim Ätzen minimieren. Darüber hinaus ermöglicht die automatisierte Computeroberfläche dem Benutzer, Daten schnell zu speichern, Ergebnisse zu überprüfen und Prozessparameter zu optimieren. Seine Sicherheitsmerkmale schützen auch das Personal und die Umwelt für gefährliche Stoffe.
Es liegen noch keine Bewertungen vor